[发明专利]防电磁辐射眼镜屏蔽效能的测试方法及实现该方法的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种屏蔽效能的测试方法，特别涉及防电磁辐射眼镜屏蔽效能的测试方法，还涉及实现该方法的装置。

背景技术

大功率电磁辐射能伤害人体，人体最容易受电磁辐射伤害的部位是眼睛，在长时间，较大剂量电磁波辐射下，眼睛的晶状体会变得浑浊，生白内障。预防措施就是戴上涂有防电磁辐射涂料的眼镜，但是当镜片涂有防电磁辐射的金属薄膜后，镜片的透光性能减弱了，涂层越厚，防电磁辐射性能越好，而光通量越少，为了在亮度和防电磁辐射之间寻找个最佳点，我们必须测准镜片的电磁屏蔽效能，但遗憾的是至今无一合适的方法。

我国的国军标SJ/T20524—1995规定了非导电材料表面涂或镀层，金属网、导电玻璃、导电薄膜，导电介质板等平板型屏蔽材料屏蔽效能的测量方法。但它要求样品直径为Φ115，而通常眼镜的尺寸小于Φ115，无法测试，即使使用较小的样品夹具。而且，这是一种破坏性测试方法，因此防电磁辐射眼镜测试始终是一个难解的问题。

为此在过去常用的是一种近场法，如图1所示。

为了防止发射的电磁波从镜片的侧面衍射到接收天线一侧，发射天线和接收天线一般做得很小，这样天线系数就很大，接收机收到的信号就很弱，噪声也就变得很大，给测试带来很大的误差。另外，测试时电磁波从镜片边上的衍射以及从镜片反射后经室内多次反射到接收天线所造成的泄漏，都使测试结果误差很大。而且，近场电磁屏蔽效能还和辐射源、天线及镜片之间距离有关。即使在造价数百万元的电波暗室内测试，这种由于场反射而造成的场不均匀误差仍可达6分贝(还不包括从镜片一侧到另一侧的衍射误差)。再则，从评价电磁屏蔽材料性能的角度上来看，考虑到近场电磁屏蔽效能还和辐射源、天线及镜片之间距离有关，显然，近场法不是一种好方法。

发明内容

本发明要解决的技术问题第一方面在于提出一种防电磁辐射眼镜屏蔽效能测试方法，以解决现有的测试方法存在的上述问题。

防电磁辐射眼镜屏蔽效能测试方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)测出所述防电磁辐射眼镜的防电磁辐射涂层的表面电阻R_s，得出所述防电磁辐射涂层的表面电阻率ρ_s；

2)将步骤1)中所得到的表面电阻率，代入以下公式得到屏蔽效能SE

SE=20lg(1+Zo2ρs)······························(5)]]>

式中Z_o为空间波阻抗，其值为377Ω。