[发明专利]一种取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：以单晶三氧化钨纳米片的乙醇悬浮液为前驱物，制得由三氧化钨纳米片叠加而成的沿[002]晶向取向的三氧化钨纳米薄膜；

所述的制备方法具体如下：将三氧化钨纳米片分散于无水乙醇中；所得混合物先超声处理5-10min，然后磁力搅拌3-5小时，以得到可较长时间稳定的单晶三氧化钨纳米片的乙醇悬浮液；经清洗、干燥后的基底水平放置于通风环境中，每次用取液器移取50-100μl制得的单晶三氧化钨纳米片的乙醇悬浮液滴加于基底之上，所述的单晶三氧化钨纳米片的乙醇悬浮液的质量浓度为1-5g/l，然后让其自然挥发除去乙醇溶剂；重复上述“滴加-挥发”过程，直到满足膜厚的要求，即可制得所需要的薄膜。

2.根据权利要求1所述的取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述的单晶三氧化钨纳米片的乙醇悬浮液分批滴加到水平放置的基底上，每批滴加量为50-100μl，然后室温下自然干燥30-60min。

3.根据权利要求1所述的取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述的基底材料是玻璃片、陶瓷片、金属片或TEM铜网。

4.根据权利要求1所述的取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所制得的三氧化钨纳米薄膜沿ab平面铺展，c-轴为膜厚方向。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述的三氧化钨纳米片为单斜相JCPDS 43-1035，纳米片的大小为(100-800)nm×(100-800)nm，厚度为5-40nm，厚度方向为[002]。

6.根据权利要求5所述的取向三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述的三氧化钨纳米片的BET比表面积达100-250m²/g。