[发明专利]一种用于元素形成挥发物的化合物无效
申请号: | 200710057778.6 | 申请日: | 2007-06-29 |
公开(公告)号: | CN101082546A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 段旭川 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;C01B35/18;G01N21/00 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 元素 形成 挥发物 化合物 | ||
1、一种用于元素形成挥发物的化合物,它具有下式I的结构:
MpHnBm
I
其中H代表元素氢6≤n≤30;
B代表元素硼2≤m≤20;
M代表元素锂、钠、钾、铵、氯、溴、碘、碳或有机物分子或有
机物离子;0≤p≤3。
2、如权利要求1所述的化合物,其特征在于所述的化合物是高元硼烷或高元硼烷所衍生出的化合物。
3、如权利要求1所述的化合物,其特征在于所述的化合物是乙硼烷通过和其它化学物质反应形成含还原氢的硼氢盐或化合物。
4、如权利要求1所述的化合物,其特征在于所述的化合物是硼氢化钠、硼氢化钾、硼氢化锂或硼氢化铵通过化学反应形成的含还原氢的硼氢盐或化合物。
5、如权利要求1所述的化合物,其特征在于当m=2,n=6时,此时p>1。
6、如权利要求1所述的化合物,其特征在于当p=0时,此时m≥6,
n≥6。
7、权利要求1-6任一项所述化合物作为原子光谱分析时氢化物进样的含氢还原剂的应用。
8、权利要求1-6任一项所述化合物作为元素化学气相沉积先驱物的制备。
9、权利要求1-6任一项所述化合物作为无机镀膜的气态先驱物的制备。
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