[发明专利]辐照交联异种皮脱细胞基质制备方法及其产品

权利要求书

1、辐照无菌异种皮脱细胞基质制备方法，主要包括以下步骤：

a、取皮，用5％碘伏浸泡10～30分钟灭菌，脱毛，去脂，裁剪，用纯净水清洗，甩干至含水量15～25％之间；其特征在于：

b、上机切皮，真皮、表皮分离，取保留基底膜的真皮部分，厚度0.3～0.8±0.04mm；

c、.脱细胞：一脱：上述真皮部分首先用1~15％的氯化钠水溶液浸泡30分钟后用纯净水清洗；然后用10～20％的胰蛋白酶在36～40℃下，浸泡30～50分钟后用纯净水清洗；使细胞核与细胞壁分离后，用36～40℃生理盐水清洗2~4次甩干，再用纯净水清洗2~4次甩干，沥水30分；二脱：将上述沥水后含水量在10～30％的皮片，最佳含水量25％，再用10～20％的脱氧核糖核酸酶、10～30％的核糖核酸酶先后交替地在36～40℃下，每次浸泡20～40分钟；各浸泡2～4次后，再用脱氧核糖核酸酶或核糖核酸酶0.5～1.5％，36～40℃下再次浸泡5～30分钟；

d、.除去真皮内可诱发宿主细胞识别反应的物质：将前述处理后的材料用PH值7.5~8.5的纯水清洗甩干；采用常规固定剂在25～36℃下，浸泡50～120分钟；

e、辐照灭菌：经过电子加速器或Co-60进行γ射线辐照灭菌；辐照剂量150万～400万拉德；照射时间60～180秒。

2、根据权利要求1所述的辐照无菌异种皮脱细胞基质制备方法，其特征在于：所述的保留基底膜的真皮部分厚度为0.5mm±0.04mm最佳。

3、根据权利要求1所述的辐照无菌异种皮脱细胞基质制备方法，其特征在于：所述的辐照灭菌放置皮片的吊具与放射源以20～60度角接触，距离10公分。

4、一种辐照无菌异种皮脱细胞基质，其特征在于：所述的辐照无菌异种皮脱细胞基质是采用权利要求1～3的方法制得。