[发明专利]化学机械抛光磨料粒子CeO2及其制备方法

权利要求书

1、一种化学机械抛光磨料粒子CeO₂，其特征在于它为单相立方晶系，空间群为O⁵_H-F_M3M，晶粒尺寸为5～100nm，0＜分散度＜1.0，0＜比表面积＜50m²/g。

2、根据权利要求1所述的CeO₂粒子，其特征在于，所述的晶粒尺寸为5～50nm，0＜分散度＜0.8。

3、一种制造权利要求1所述的化学机械抛光磨料粒子CeO₂的制备方法，其特征在于，它包括以下具体步骤：

(1)将铈盐和沉淀剂分别溶于水中配成均匀溶液；

(2)将沉淀剂加入到铈盐溶液中，并使用超声震动使铈盐溶液和沉淀剂均匀混合；

(3)加入表面活性剂到上述混合溶液中，并将混合溶液放入带加温的搅拌槽中保持一定温度连续搅拌，使反应充分进行，并得到沉淀物；

(4)将沉淀物分离、洗涤、干燥，即得到前驱体粉体；

(5)将前驱体粉末煅烧，得到最终的CeO₂磨料粒子。

4、根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，沉淀剂为均相沉淀剂草酸二甲酯、尿素、六次甲基四胺中的一种或两种以上的混合。

5、根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所需铈盐为铈的硫酸盐、硝酸盐、氯化物。

6、根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中反应物的配比为：铈离子∶沉淀剂摩尔比＝1∶2～1∶10。

7、根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中的表面活性剂为：十六烷基三甲基溴化铵、聚乙二醇20000、聚乙烯醇或聚氧乙烯失水山梨醇酯，其用量与混合溶液的重量百分比为0.1～5％。

8、根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)用超声辅助，超声时间t为：0＜t＜60min，超声频率20～100KHz，功率40～100。

9、根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中的反应温度为30～70℃；反应时间为：0.5～8小时。

10、根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)中的煅烧温度为300℃～800℃。