[发明专利]精密双面抛光机的控制系统无效
申请号: | 200710068275.9 | 申请日: | 2007-05-09 |
公开(公告)号: | CN101049677A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 胡晓冬;李伟 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B51/00 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人: | 王兵;王利强 |
地址: | 310014*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 精密 双面 抛光机 控制系统 | ||
1、一种精密双面抛光机的控制系统,其特征在于:所述控制系统包括抛光机精密控制器、与驱动上抛光盘转动的第一变频电机连接的第一变频器、与驱动太阳轮转动的第二变频电机连接的第二变频器、与驱动下抛光盘转动的第三变频电机连接的第三变频器、与驱动外齿圈转动的第四变频电机连接的第四变频器、安装在各个变频电机的主轴上的转速传感器,以及调节加载压力大小的压力调节阀和安装在气缸的活塞杆与上抛光盘之间的压力传感器,所述的抛光机精密控制器包括:电机转速调节模块,用于依据工件的加工条件制定的加载转速控制曲线控制转速大小,向各个变频器发出转速调节指令;
电机转速控制模块,用于各个抛光阶段,接收转速传感器的信号,并将转速传感器的转速值与预设各个抛光阶段的工作转速比较,选择性地向变频器发出增大或减小转速指令;
压力调节模块,用于根据工件的加工条件制定的加载压力控制曲线控制载荷大小,向压力调节阀发出压力调节指令;
上抛光盘压力控制模块,用于各个抛光阶段,接收压力传感器的信号,并将压力传感器的压力值与预设各个抛光阶段的工作压力比较,选择性地向压力调节阀发出增大或减小压力指令的;
所述的电机转速调节模块连接第一变频器、第二变频器、第三变频器、第四变频器,所述的电机转速控制模块连接各个转速传感器、第一变频器、第二变频器、第三变频器、第四变频器;
所述的压力调节模块连接压力调节阀,所述的上抛光盘压力控制模块连接压力调节阀、压力传感器。
2、如权利要求1所述的精密双面抛光机的控制系统,其特征在于:所述控制系统还包括用于检测上抛光盘位置的位置传感器,所述的所述的抛光机精密控制器还包括:上抛光盘位置控制模块,用于依照位移传感器的信号判定上抛光盘是否到达工作位置;所述的位置传感器连接所述上抛光盘位置控制模块。
3、如权利要求1或2所述的精密双面抛光机的控制系统,其特征在于:所述的控制系统还包括安装在抛光液桶体内的温度调节器、温度传感器,所述的抛光机精密控制器还包括:恒温控制模块,用于当温度传感器测得的温度低于设定值时控制温度调节器制热,温度传感器测得的温度高于设定值时控制温度调节器制冷;所述的温度传感器连接恒温控制模块的输入端,所述恒温控制模块的输出端连接温度调节器。
4、如权利要求3所述的精密双面抛光机的控制系统,其特征在于:所述的控制系统还包括安装在抛光液输送管道上的流量调节阀、流量传感器,所述的抛光机精密控制器还包括:
流量控制模块,用于采集流量传感器的信号,如流量传感器的流量比预设流量大,向流量调节阀发出减少流量的指令;如流量传感器的流量比预设流量小,向流量调节阀发出增大流量的指令;
所述的流量控制模块与流量调节阀、流量传感器连接。
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