[发明专利]一种真空镀膜设备及用于该设备的大气回转台

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，包括用于对工件进行真空镀膜的真空镀膜室、位于真空镀膜室内用于将用于承载工件的工件架运输且穿过真空镀膜室的第一移动机构、大气回仓和位于大气回仓内用于将用于承载工件的工件架运输且穿过大气回仓的第二移动机构，所述第一移动机构和第二移动机构的运行方向相反，且大气回仓的入口与真空镀膜室的出口靠近，大气回仓的出口与真空镀膜室的入口靠近，其特征在于：还包括大气回转台，所述大气回转台靠近真空镀膜室的出口和大气回仓的入口，所述大气回转台包括旋转机构、用于将工件架从真空镀膜室运输到大气回转台上的第三移动机构和用于将工件架从大气回转台上运输到大气回仓内的第四移动机构，所述第三移动机构和第四移动机构跟随旋转机构旋转以交换位置；所述第三移动机构在静止状态下位于将第一移动机构沿其运行延伸的轨道上，所述第四移动机构在静止状态下位于将第二移动机构沿其运行的反方向延伸的轨道上。

2.如权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述旋转机构包括旋转转台，所述第三移动机构和第四移动机构分别固定在旋转转台的两相对的侧边上，所述大气回转台还包括位于旋转转台上方或上边缘、且与第三移动机构和第四移动机构分别对应的两个固定机构。

3.如权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述旋转机构还包括转动马达和转盘轴承，所述转盘轴承与转动马达的输出端耦合，所述旋转转台与转盘轴承紧固在一起。

4.如权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述第三移动机构和第四移动机构分别包括驱动马达、由驱动马达驱动旋转的至少两个摩擦驱动轮，所述摩擦驱动轮固定在旋转转台的外侧面；所述固定机构为用于容纳工件架上边缘的倒“U”型轨道。

5.如权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述倒“U”型轨道为磁轨道，所述工件架上边缘设有与磁轨道磁性相反的磁条。

6.如权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述磁轨道的两端为喇叭口，所述大气回转台还包括位于旋转转台上的、用于固定磁轨道的磁轨道支架。

7.如权利要求4至6中任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述大气回转台还包括与摩擦驱动轮位于相同外侧面的位置传感器，所述每一侧面的位置传感器至少有两个。

8.如权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述旋转机构的旋转中心分别到所述真空镀膜室的出口和大气回仓的入口的最短距离大于旋转机构的边缘相对于旋转中心的最大径向距离。

9.如权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于：还包括与所述大气回转台结构相同的工件装卸台，所述工件装卸台靠近真空镀膜室的入口和大气回仓的出口。

10.一种用于真空镀膜设备的大气回转台，其特征在于：包括旋转机构、第三移动机构和第四移动机构，所述第三移动机构在静止状态下位于将第一移动机构沿其运行方向延伸的轨道上，用于将工件架从真空镀膜室运输到大气回转台上，所述第四移动机构在静止状态下位于将第二移动机构沿其运行的反方向延伸的轨道上，用于将工件架从大气回转台上运输到大气回仓内，所述第三移动机构和第四移动机构跟随旋转机构旋转以交换位置；所述旋转机构包括旋转转台，所述第三移动机构和第四移动机构分别位于所述旋转转台的相对的两侧。

11.如权利要求10所述的大气回转台，其特征在于：所述旋转机构包括转动马达、转盘轴承和旋转转台，所述转盘轴承与转动马达的输出端耦合，所述旋转转台与转盘轴承紧固在一起；所述第三移动机构和第四移动机构分别固定在旋转转台的两相对的侧边上，所述大气回转台还包括位于旋转转台上方、与第三移动机构和第四移动机构分别对应的两个固定机构。

12.如权利要求11所述的大气回转台，其特征在于：所述第三移动机构和第四移动机构分别包括驱动马达、由驱动马达驱动旋转的至少两个摩擦驱动轮，所述摩擦驱动轮固定在旋转转台的外侧面；所述固定机构为用于容纳工件架上边缘的倒“U”型磁轨道。

13.如权利要求12所述的大气回转台，其特征在于：还包括与摩擦驱动轮位于相同外侧面的位置传感器，所述每一侧面的位置传感器至少有两个。