[发明专利]一种真空镀膜设备及用于该设备的大气回转台

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜设备及用于该设备的大气回转台。

背景技术

由于在对玻璃等一些产品进行镀膜时需要保证工作环境的净化，因此，现有的镀膜生产线例如ITO连续真空镀膜生产线的布置方式通常是采用从净化操作间装片，经过真空镀膜设备完成镀膜，再返回净化操作间卸片。因净化操作间的高成本，通常将装片和卸片都设计在一个净化操作间，这要求工件在镀膜后折回装片的操作间，相应的真空镀膜设备也都是折回式的。现有的折回式真空镀膜设备主要包括两种方式：(1)真空双面镀膜+出口平移+大气回架；(2)真空单面镀膜+真空旋转回架。

对于第一种方式，其真空镀膜设备包括真空双面镀膜室、平移回收台和大气回仓；待镀工件如玻璃基片从净化操作间装入真空双面镀膜室，工件架装载待镀工件在真空镀膜室中移动，真空双面镀膜室对待镀工件进行镀膜，当镀膜结束，待镀工件架移动到平移回收台并与平移回收台上的工件架相接，已镀膜的工件从真空镀膜室转移到平移回收台，平移回收台中装载了已镀膜的工件的工件架从与真空镀膜室相接的位置平移到与大气回仓相接的位置，大气回仓不需要设计为真空环境，但需要是高净化环境，已镀膜的工件从平移回收台转移到大气回仓并从大气回仓折回到同一净化操作间卸片。

对于第二种方式，其真空镀膜设备包括第一真空镀膜室、第二真空镀膜室和真空回转台，待镀工件从净化操作间进入第一真空镀膜室开始镀膜并在其中移动，完成镀膜工序的一部分，到达真空回转台后，真空回转台将工件从第一真空镀膜室转移到与第一真空镀膜室大致平行但运行方向相反的第二真空镀膜室，继续镀膜，工件在第二真空镀膜室中镀膜后返回到净化操作间。

以上两种方式各有其缺陷，第一种方式由于采用平移回收台，其不但占地面积大，而且生产节拍较低，通常都大于100s/pitch。第二种方式采用真空回转台，真空回转台需要真空环境，且和第一真空镀膜室、第二真空镀膜室都需要真空密封，所以其对传动精度及真空密封要求很高，增加了制造和维护难度。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提出了一种真空镀膜设备及用于该设备的大气回转台，不仅提高了生产节拍，而且降低了传动精度和密封要求，更利于维护。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种真空镀膜设备，包括用于对工件进行真空镀膜的真空镀膜室、位于真空镀膜室内用于将用于承载工件的工件架运输且穿过真空镀膜室的第一移动机构、大气回仓和位于大气回仓内用于将用于承载工件的工件架运输且穿过大气回仓的第二移动机构，所述第一移动机构和第二移动机构的运行方向相反，且大气回仓的入口与真空镀膜室的出口靠近，大气回仓的出口与真空镀膜室的入口靠近，还包括大气回转台，所述大气回转台靠近真空镀膜室的出口和大气回仓的入口，所述大气回转台包括旋转机构、用于将工件架从真空镀膜室运输到大气回转台上的第三移动机构和用于将工件架从大气回转台上运输到大气回仓内的第四移动机构，所述第三移动机构和第四移动机构跟随旋转机构旋转以交换位置；所述第三移动机构在静止状态下位于第一移动机构的运行方向上，所述第四移动机构在静止状态下位于第二移动机构的运行反方向上，即所述第三移动机构在静止状态下位于将第一移动机构沿其运行延伸的轨道上，所述第四移动机构在静止状态下位于将第二移动机构沿其运行的反方向延伸的轨道上。

本发明的优选实施中，所述旋转机构包括旋转转台，所述第三移动机构和第四移动机构分别固定在旋转转台的两相对的侧边上，所述大气回转台还包括位于旋转转台上方或上边缘、与第三移动机构和第四移动机构分别对应的两个固定机构。

所述旋转机构还包括转动马达和转盘轴承，所述转盘轴承与转动马达的输出端耦合，所述旋转转台与转盘轴承紧固在一起。

所述第三移动机构和第四移动机构分别包括驱动马达、由驱动马达驱动旋转的至少两个摩擦驱动轮，所述摩擦驱动轮固定在旋转转台的外侧面；所述固定机构为用于容纳工件架上边缘的倒“U”型轨道。

优选的，所述倒“U”型轨道为磁轨道，所述工件架上边缘设有与磁轨道磁性相反的磁条。

所述磁轨道的两端为喇叭口，所述大气回转台还包括位于旋转转台上的、用于固定磁轨道的磁轨道支架。

进一步的，所述大气回转台还包括与摩擦驱动轮位于相同外侧面的位置传感器，所述每一侧面的位置传感器至少有两个。

所述旋转机构的旋转中心分别到所述真空镀膜室的出口和大气回仓的入口的最短距离大于旋转机构的边缘相对于旋转中心的最大径向距离。