[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有狭缝喷嘴的基板处理装置中的基板搬送技术。

背景技术

一直以来，提出有在从狭缝喷嘴喷出药液而在基板的表面形成薄膜的基板处理装置中对基板进行搬送的技术。这种技术例如被记载在专利文献1中。

在专利文献1中提出有以下技术：通过使保持基板的往复搬运器(shuttle)在水平方向上移动，即所谓的往复搬运器搬送，来搬送基板。

专利文献1：JP特开平11-274265号公报。

但是，在上述的往复搬运器搬送中具有这样的问题：由于搬送单元和涂敷单元沿涂敷单元的涂敷方向配置，所以当在搬送单元侧使狭缝喷嘴等待时，待机状态的狭缝喷嘴和搬送基板的往复搬运器会发生干扰。

还有这样的问题：由于往复搬运器是仅保持基板的侧端部的结构，所以当基板大型化时，所保持的基板的中央部有可能会弯曲、破损。

进而，在往复搬运器搬送中有这样的问题：由于搬送基板的高度位置被固定，所以装置设计的自由度降低。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种具有狭缝喷嘴的基板处理装置，能够适当地搬送基板。

为了解决上述的问题，技术方案(1)的发明是一种基板处理装置，用于在方形基板的表面形成薄膜，其特征在于，具有：涂敷单元，其从狭缝喷嘴喷出处理液的同时，使上述狭缝喷嘴沿涂敷方向移动，向基板的表面涂敷处理液，其中，上述狭缝喷嘴沿着在水平面内与上述涂敷方向垂直的方向延伸；搬送单元，其用于一边从在水平面内与上述涂敷方向垂直的方向保持上述方形基板，一边将上述方形基板搬入上述涂敷单元以及/或者将上述方形基板从上述涂敷单元搬出；上述涂敷单元以及上述搬送单元沿着在水平面内与上述涂敷方向垂直的方向排列。

还有，技术方案(2)的发明的特征是在技术方案(1)所述的基板处理装置中，上述搬送单元还具有升降装置，该升降装置使方形基板升降。

技术方案(3)的发明的特征是在技术方案(2)所述的基板处理装置中，还具有后处理单元，该后处理单元对上述涂敷单元中的处理结束后的方形基板进行后处理，上述后处理单元和上述搬送单元形成多级结构。

技术方案(4)的发明的特征是在技术方案(1)至(3)中任一项所述的基板处理装置中，上述搬送单元具有支承方形基板的中央部的支承构件。

在技术方案(1)至(4)所记载的基板处理装置中，通过涂敷单元以及搬送单元沿与涂敷方向垂直的方向排列，从而在涂敷单元中，增大使狭缝喷嘴等待的位置的自由度。

在技术方案(2)所记载的基板处理装置中，通过搬送单元还具有使基板升降的升降机构，从而进一步增大装置设计的自由度。特别是由于能够自由设计涂敷单元中的基板的高度位置，所以能够容易地应对基板的大型化。

在技术方案(3)记载的基板处理装置中，后处理单元和上述搬送单元形成多级结构，由此能够抑制占有面积的增大。

在技术方案(4)记载的基板处理装置中，由于具有支承基板中央部的支承构件，由此能够抑制搬送中的基板的挠曲，从而能够容易地应对基板的大型化。

附图说明

图1是表示具有本发明的基板处理装置的基板处理系统的图。

图2是表示涂敷单元的图。

图3是表示搬送机械手的俯视图。

图4是表示搬送机械手以及涂敷单元的侧视图。

图5是表示搬送机械手的俯视图。

图6是表示搬送机械手的侧视图。

图7是表示干燥单元以及搬送传送带的图。

具体实施方式

以下，针对本发明的优选实施方式，参照附图进行详细地说明。

<1.实施方式>

图1是表示具有本发明的基板处理装置1的基板处理系统的图。

此外，在图1中，为了便于图示以及说明，特定义Z轴方向表示铅垂方向、XY平面表示水平面，但是这些是为了把握位置关系方便而定义的，并不是限定以下说明的各方向。对于以下的图也是同样。

基板处理系统除了具有基板处理装置1之外，还具有搬入要进行处理的基板90的搬入部2、清洗基板90而使其清洁化的清洗部3、以及将基板90调节到规定温度的温度调节部40、41、42。基板处理系统将用于制造液晶显示装置的画面面板的方形玻璃基板作为被处理基板90。

此外，虽然没有详细图示，但是温度调节部40、41、42具有加热基板90的加热单元(加热板)、冷却基板90的冷却单元(冷却板)、以及在这些单元之间搬送基板90的搬送单元。