[发明专利]扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台

说明书

技术领域

本发明涉及半导体行业的测试分析技术领域，尤其涉及一种扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台。

背景技术

扫描电子显微镜是通过高能电子入射固体样品表面，与样品的原子核和核外电子发生弹性或非弹性散射，激发样品产生各种物理信号，利用电子检测器，接收信号形成图像。

扫描电子显微镜广泛应用在半导体电子产业中，观察半导体芯片的断面和表面的形貌，以及对待测样品的成分进行确认等。

现有的扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台一般分为两种，一种是设有装载硅片的槽，将硅片竖直放置其中以便观察硅片断面的样品台，另一种是观察硅片表面的样品台，一般将硅片平放固定到样品台上再利用扫描电子显微镜观察硅片样品的表面。

在现有技术中为了利用扫描电子显微镜观察硅片的断面和表面，通常需要同时准备观察硅片断面的样品台和观察硅片表面的样品台，使测试工作的物质成本增加了一倍。

另外，利用现有的样品台观察同一片硅片的断面和表面时，需要先将硅片放置在观察硅片断面的样品台上观察样品的断面，观察完毕之后将样品取下，再将样品置于观察样品表面的样品台上观察样品的表面。这样需要不停的替换样品台，不仅繁琐，增加时间，降低生产效率，还大大增加了测试工作的人工成本。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台，可以在同一个样品台上观察硅片的断面形貌和表面图形，减少工作量，提高工作效率。

为解决上述技术问题，本发明扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台的技术方案是，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，放置样品的平台表面设有与平台表面成15度至90度的活动槽，该活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。

作为本发明的进一步改进是，活动槽宽度调节装置为设置在每条活动槽底部、内置螺丝且带有螺纹的小孔。

作为本发明另一种进一步改进是，活动槽将放置样品的平台表面分为多个区域，并以字母或者数字区分平台表面的不同区域。

本发明以与平台表面成15度至90度的活动槽，当硅片放置在活动槽中时通过调节扫描电子显微镜的角度，可以无需移动硅片而在同一个样品台上观察硅片的断面和表面。本发明可以节约时间，降低工艺成本。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明：

图1为本发明样品台平台表面示意图；

图2为本发明样品台活动槽侧面示意图；

图3为本发明活动槽宽度调节装置示意图。

图中附图标记为与平台表面成15度至90度的活动槽为10，螺丝为20，小孔为30。

具体实施方式

如图1、图2所示，图1为本发明样品台平台表面示意图。金属样品台的平台长50mm，宽40mm，厚8mm，在样品台的平台表面设有4条与平台表面成23度的活动槽10，该活动槽10之间的距离约为7mm，每个活动槽10深度为0.3mm，槽宽为1mm。该活动槽与样品台平台表面的角度也可以在15度至90度之间。

如图1至图3所示，该样品台还包括设置在活动槽底部，调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。该活动槽宽度调节装置为设置在每条活动槽10底部、内置螺丝20且带有螺纹的小孔30。该螺丝20和该小孔30的螺纹向螺合，通过转动螺丝调节活动槽的宽度。两个小孔30设置在活动槽10的底部，且小孔之间间隔为16mm。

为方便样品观察，在活动槽10上下数字标注区分不同的区域，每个活动槽10可以放置两个样品，4条活动槽可同时放置4组不同厚度的8个样品进行观察，使观察者在放置完样品后能在扫描电子显微镜观察过程中轻易的找到自己需要的样品进行断面和表面观察。

在利用本发明扫描电子显微镜硅片样品观察的样品台观察硅片的断面和表面时，对应活动槽10边的数字将样品插入活动槽10，将需要观察的面向上，调节活动槽底部的螺丝20固定样品，并记下放置区域。将样品台放入扫描电子显微镜进行观察，在低倍下找到放置样品区域，以数字区分需要观察的样品，转成高倍进行表面观察。再完成了硅片的表面观察之后，将扫描电子显微镜转动23度对硅片进行断面观察。观察硅片断面时，在低倍下找到放置样品区域，以数字区分需要观察的样品，转成高倍进行断面观察。

本发明通过在样品台的平台上设置与样品台平台呈一定的角度活动槽，在观察硅片的表面之后将扫描电子显微镜转动一定的角度就可以进行硅片的断面观察。而且本发明通过在样品台上设置多个活动槽，并以数字或字母区分样品台的不同区域，可以在一个样品台上观察多个硅片的断面形态和表面形状。本发明可以利用一个样品台同时观察硅片的断面和表面，节约了测试工作的物质成本，同时利用本发明可以无需取下和再次放置硅片而同时观察硅片的断面和表面，节约了工作的时间，降低工作成本，提高工作效率。