[发明专利]光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包含：照明系统，其被配置成可调节辐射束；投影系统，被配置成可将所述辐射束的至少一部分作为投影辐射束来投射；以及透镜干涉仪，用于感测所述投影辐射束的波前状态，其中所述透镜干涉仪包括透镜干涉仪标记器和检测器，所述透镜干涉仪标记器包含至少一个光栅贴片，所述光栅贴片包含第一类型的多个面积元和第二类型的多个面积元，所述第一类型的多个面积元和第二类型的多个面积元被布置成交错循环的序列，所述第一类型的面积元对辐射来说是相对不透明的，所述第二类型的面积元对辐射来说是相对透明的，并且所述至少一个光栅贴片的第二类型的面积元各自配有偏振元件，所述偏振元件能够感测所述投影辐射束的偏振态。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述透镜干涉仪标记器包含所述偏振元件，所述检测器被布置成用于接收所述偏振元件透射的被接收的投影射束的至少一部分。

3.如权利要求2所述的光刻设备，其中所述偏振元件是子波长光栅，所述子波长光栅包含子波长的线和间隔的交错序列，其中的间距小于两倍的所述投影射束的波长。

4.如权利要求3所述的光刻设备，其中所述子波长光栅的间距在第一间距方向和第二间距方向的至少一个方向上伸展；所述第二间距方向垂直于所述第一间距方向。

5.如权利要求4所述的光刻设备，其中所述透镜干涉仪标记器包含多个光栅贴片，在每一个光栅贴片中，所述子波长光栅的间距不同于其他光栅贴片中所述子波长光栅的间距。

6.如权利要求5所述的光刻设备，其中所述子波长光栅具有相同的间距方向。

7.如权利要求5所述的光刻设备，其中具有所述第一间距方向的子波长光栅构成第一组的多个光栅贴片，以及具有所述第二间距方向的子波长光栅构成第二组的多个光栅贴片。

8.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述透镜干涉仪包含透镜干涉仪光阑，用于选择所述辐射束的至少一部分作为所述投影辐射束，所述透镜干涉仪光阑的位置与所述投影系统的光瞳面内的场点位置相关联。

9.如权利要求1所述的光刻设备，其中所述透镜干涉仪标记器被布置在所述光刻设备的衬底工作台的表面上，所述检测器相对于所述投影系统被布置在所述透镜干涉仪标记器之后，所述衬底工作台被构建成可支撑衬底并且所述投影系统被配置成可使所述投影辐射束投射到所述衬底工作台上。

10.一种用于光刻设备的透镜干涉仪，所述光刻设备包含被配置成可调节辐射束的照明系统和被配置成可将所述辐射束的至少一部分作为投影辐射束来投射的投影系统；所述透镜干涉仪被布置成用于感测所述辐射束的波前状态，其中所述透镜干涉仪包括透镜干涉仪标记器和检测器，所述透镜干涉仪标记器包含至少一个光栅贴片，所述光栅贴片包含第一类型的多个面积元和第二类型的多个面积元，所述第一类型的多个面积元和第二类型的多个面积元被布置成交错循环的序列，所述第一类型的面积元对辐射来说是相对不透明的，所述第二类型的面积元对辐射来说是相对透明的，并且所述至少一个光栅贴片的第二类型的面积元各自配有偏振元件，所述偏振元件能够感测所述辐射束的偏振态。

11.如权利要求10所述的透镜干涉仪，其中所述透镜干涉仪标记器包含偏振元件，所述检测器被布置成用于接收所述偏振元件透射的被接收的投影射束的至少一部分。

12.如权利要求11所述的透镜干涉仪，其中所述偏振元件是子波长光栅，所述子波长光栅包含子波长的线和间隔的交错序列，其中的间距小于两倍的所述投影辐射的波长。

13.如权利要求12所述的透镜干涉仪，其中所述子波长光栅的间距在第一间距方向和第二间距方向的至少一个方向上伸展；所述第二间距方向垂直于所述第一间距方向。

14.如权利要求10所述的透镜干涉仪，其中所述透镜干涉仪标记器包含多个光栅贴片，在每一个光栅贴片中，所述子波长光栅的间距不同于其他的光栅贴片中所述子波长光栅的间距。

15.如权利要求14所述的透镜干涉仪，其中所述子波长光栅具有相同的间距方向。

16.如权利要求14所述的透镜干涉仪，其中具有所述第一间距方向的子波长光栅构成第一组的多个光栅贴片，以及具有所述第二间距方向的子波长光栅构成第二组的多个光栅贴片。