[发明专利]连续处理长基材的输送机构、其处理成型设备及所获长件

权利要求书

1.一种输送机构，该输送机构具有基站，细长的基底材料(1)连续地输送入该基站从而以设定的速度接受物理或化学处理，离开该基站后，经处理的基底材料(1)被连续地回收，其中，沿与输送方向相反的方向的张力T₁施加于该基站的输入侧，摩擦力F施加于该基站处，沿着输送方向的张力T₂施加于该基站的回收侧，这些力都施加在基底材料(1)上，并且满足F＞T₁＞T₂的关系。

2.根据权利要求1所述的输送机构，其中

所述张力T₁和T₂根据所述输入侧上和所述回收侧上的所述基底材料(1)的数量的差值的变化以互补的方式调节至恒定值，至少直到所述处理在所述基底材料(1)的整个长度上都已完成。

3.根据权利要求1所述的输送机构，其中

所述基底材料(1)输送时与位于所述输入侧和所述回收侧上的由扭矩马达控制的滚轮相接触，以及与两侧之间的所述基站处的由伺服马达控制的滚轮相接触。

4.根据权利要求1所述的输送机构，其中

F＞T₁＞T₂的关系通过将所述回收侧上的由所述回收侧上的扭矩马达控制的滚轮的旋转速度设定为高于当所述张力T₁等于0时处于基站的基站滚轮的旋转速度来实现。

5.一种使用根据权利要求1所述的输送机构的处理设备。

6.一种使用根据权利要求1所述的输送机构的薄膜成型设备。

7.一种细长部件，在细长基底材料的整个长度上形成表面层(11)，沿纵向方向的表面层的厚度偏差处于其平均值的±10％之内。

8.根据权利要求7所述的细长部件，其中

所述表面层(11)是薄膜。