[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中所述设备包括：

支座，它配置成固定图案形成装置，所述图案形成装置配置成提供要转移到衬底上的图案；

衬底台，它构建成固定衬底；

第一夹紧系统，它配置成将所述衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及

第二夹紧系统，它配置成在所述衬底台已被夹到所述衬底台支撑结构上之后将衬底夹到所述衬底台上，

其中，衬底台被半连续地夹到所述衬底台支撑结构上。

2.如权利要求1所述的设备，它配置成在已将所述图案从图案形成装置转移到所述衬底上之后，自动用下一衬底更换所述衬底，并配置成在更换至少一个衬底期间使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述衬底台支撑结构提供有至少部分第一夹紧系统和至少部分第二夹紧系统。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述衬底台提供有至少部分第一夹紧系统和至少部分第二夹紧系统。

5.如权利要求1所述的设备，其中第一和第二夹紧系统配置成产生真空以提供真空夹紧。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述衬底台和所述衬底台支撑结构具有不同的热膨胀系数。

7.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成当所述衬底台不支撑衬底时，使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放，

8.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成在没有图案被转移到衬底上时的至少部分时段期间，使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放。

9.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成在将图案从图案形成装置转移到每一定数量或一批衬底上之后，暂时使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放，并再次将所述衬底台夹到所述衬底台支撑结构上。

10.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成在某一时段后暂时使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放，并再次将所述衬底台夹到所述衬底台支撑结构上。

11.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放，其中所述衬底与所述衬底台相接触。

12.如权利要求1所述的设备，其中第一夹紧系统配置成用正释放力使所述衬底台从所述衬底台支撑结构中释放。

13.一种器件制造方法，包括：

在将衬底夹到衬底台上之前，将所述衬底台夹到支撑结构上；及

将图案从图案形成装置转移到所述衬底上，

其中，衬底台被半连续地夹到所述支撑结构上。

14.如权利要求13所述的方法，其中在将所述衬底装载到所述衬底台上之前，所述衬底台被带进与所述支撑结构的热平衡。

15.如权利要求13所述的方法，其中在没有图案被转移到衬底上时的至少部分时段期间，使所述衬底台从所述支撑结构中释放。

16.如权利要求13所述的方法，包括随后处理多个衬底，所述处理涉及将图案转移到所述多个衬底中的每个衬底上，并在所述处理期间使所述衬底台暂时从所述支撑结构中至少释放一次。

17.如权利要求13所述的方法，其中如果用下一衬底更换所述衬底，则使所述衬底台暂时从所述支撑结构中释放。

18.如权利要求13所述的方法，其中所述衬底台是粒结台，所述衬底台和支撑结构之间的夹紧是通过真空夹紧实现的，并且所述衬底台和所述衬底之间的夹紧是通过真空夹紧实现的。

19.如权利要求13所述的方法，其中在将图案从图案形成装置转移到每一定数量或一批衬底上之后，使所述衬底台暂时从所述支撑结构中释放，并再次夹到所述支撑结构上。

20.如权利要求13所述的方法，其中在某一时段后使所述衬底台暂时从所述支撑结构中释放，并再次夹到所述支撑结构上。

21.如权利要求13所述的方法，其中，在将图案转移到所述衬底期间，在至少部分时段期间使所述衬底台从所述支撑结构中释放，其中在所述时段内所述衬底台不用于固定所述衬底。