[发明专利]光刻设备和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻设备以及用于制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是将所需图案加到衬底上通常是加到衬底的目标部分上的一种机器。光刻设备可例如用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置，备选称为掩模或分划板，可用来产生要在IC各层上形成的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包括一个或数个小片的部分)。图案的转移通常是通过成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般来说，单个衬底会含有依次形成图案的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器，其中对每个目标部分的照射是一次性将整个图案曝光到目标部分上，以及所谓的扫描器，其中对每个目标部分的照射是通过辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案，同时在平行于或反平行于该方向上同步扫描衬底。也可以通过将图案印刷到衬底上而将图案从图案形成装置转移到衬底上。

在已知的设备中，可以在衬底台上固定衬底，衬底台则被支撑在适当的支撑结构(如卡盘)上。例如，衬底和衬底台都同时被夹在卡盘上，且在衬底处理期间，衬底台连续被夹在卡盘上。

发明内容

需要例如改进光刻设备和方法，特别是为了以改进的精度制造具有非常小特征的一个或多个器件。

在一个实施例中，提供了一种光刻设备，其设置成将图案从图案形成装置转移到衬底上，其中该设备包括：支座，它配置成固定图案形成装置，该图案形成装置配置成提供要转移到衬底上的图案；衬底台，构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后将衬底夹到衬底台上。

而且，在一个实施例中，提供了一种器件制造方法，其包括将衬底台夹到支撑结构上，之后将衬底夹到衬底台上，并将图案从图案形成装置转移到衬底上。

在一个实施例中，提供了一种衬底台夹紧设备，其包括：衬底台，构建成固定衬底；第一夹紧系统，配置成将衬底台夹到衬底台支撑结构上；以及第二夹紧系统，配置成在衬底台已被夹到衬底台支撑结构上之后，将衬底夹到衬底台上。

附图说明

现仅用举例的方式，参阅所附示意图对本发明的实施例加以说明，附图中对应的参考符号表示对应的部件，附图包括：

图1示出按照本发明实施例的光刻设备；

图2A示出在第一步期间的方法和系统截面图；

图2B示出在第二步期间的图2的方法和系统；

图3A示出在第一步期间的按照本发明实施例的系统和方法；

图3B示出在第二步期间的图3A的实施例；

图4以截面图示出又一实施例；

图5以截面图示出另一实施例；

图6以截面图示出另一实施例；以及

图7以截面图示出另一实施例。

具体实施方式

图1示出按照本发明一个实施例的光刻设备示意图。设备包括：

照明系统(照明器)IL，它配置成调节辐射束B(例如UV辐射或其它类型辐射)；

支撑结构(例如掩模台)MT，它构建成支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并连接到第一定位器PM，第一定位器PM配置成按照某些参数准确定位图案形成装置；

衬底台(例如晶片台或粒结(burl)台)WT，它构建成固定衬底(例如抗蚀剂涂敷的晶片)W，其中衬底台WT可以连接到或夹到第二定位器PW上，第二定位器PW配置成按照某些参数准确定位衬底；以及

投影系统(例如折射投影透镜系统)PS，它配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个小片)上。

照明系统可包括各种类型的光学元件，例如折射、反射、磁、电磁、静电或其它类型的光学元件，或它们的任何组合，用于引导、成形或控制辐射。

支撑结构固定图案形成装置，其方式取决于图案形成装置的定向、光刻设备的设计以及其它条件，例如图案形成装置是否保持在真空环境中。支撑结构可使用机械、真空、静电或其它夹紧技术来固定图案形成装置。支撑结构可以是例如框架或台面，根据需要可以是固定不动的或可移动的。支撑结构可确保图案形成装置处于例如相对于投影系统的所需位置。在本文中任何使用的术语“分划板”或“掩模”可认为和更通用的术语“图案形成装置”同义。