[发明专利]荧光X射线分析设备有效

专利信息
申请号: 200710104555.0 申请日: 2007-05-25
公开(公告)号: CN101078696A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 深井隆行;的场吉毅;高桥正则 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;G21K1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 原绍辉;黄力行
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 荧光 射线 分析 设备
【权利要求书】:

1.一种荧光X射线分析设备,其包括:

用于容纳固体样品或液体样品的样品密封构件,其由X射线传输 通过的材料制成;

用于产生初级X射线的X射线源,初级X射线以放射状的方式从 样品密封构件的侧壁进入,以便用X射线照射样品;及

检测器,其与样品密封构件的底面相对设置,并具有在样品的方 向内从入射点延伸至检测元件的入射立体角,用于检测从给予初级X 射线的样品产生的荧光X射线;

其中荧光X射线分析设备从检测的荧光X射线的谱进行样品的元 素的分析;

样品密封构件具有向着检测器逐渐变细的锥形形状,且锥形形状 从样品密封构件的底面朝着检测器设置的侧面相对的方向随着检测 器的视场的延伸而延伸。

2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中产生初级X射线的X射线源与样品密封构件的侧壁相对设 置。

3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中初级X射线布置为能够照射检测器相对的样品密封构件的 底面。

4.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中样品密封构件为可以自由地接附和分开的样品外壳。

5.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中通过插入初级滤光器用于选择性地仅激发X射线源和样品 密封构件的侧壁之间的聚焦元素,当检测器观察聚焦元素时,改进聚 焦元素在谱上的峰-背比例。

6.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中通过在样品密封构件的侧壁上设置用于产生最适于激发聚 焦元素的荧光X射线的金属壁,当从检测器观察时,改进聚焦元素在 谱上的峰-背比例。

7.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中通过在样品和检测器之间具有用于仅允许聚焦元素的荧光X 射线选择性地传输通过的次级滤光器,当从检测器观察时,改进聚焦 元素在谱上的峰-背比例。

8.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

在样品密封构件的初级X射线入射表面上,具有不少于一件允许 用于激发聚焦元素的X射线有选择性地传输通过的初级滤光器;

其中通过旋转样品密封构件,初级滤光器可以改变。

9.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

在样品密封构件的检测器的底面上,包括至少一件允许聚焦元素 的荧光X射线有选择性地传输通过的次级滤光器;

其中通过旋转样品密封构件,次级滤光器可以改变。

10.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,

其中通过在样品密封构件的侧壁上设置至少一个用于产生最适 于激发聚焦元素的荧光X射线的金属构件,通过旋转样品密封构件, 金属构件可以改变。

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