[发明专利]荧光X射线分析设备有效
申请号: | 200710104555.0 | 申请日: | 2007-05-25 |
公开(公告)号: | CN101078696A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 深井隆行;的场吉毅;高桥正则 | 申请(专利权)人: | 精工电子纳米科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223;G21K1/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 原绍辉;黄力行 |
地址: | 日本千叶*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 射线 分析 设备 | ||
1.一种荧光X射线分析设备,其包括:
用于容纳固体样品或液体样品的样品密封构件,其由X射线传输 通过的材料制成;
用于产生初级X射线的X射线源,初级X射线以放射状的方式从 样品密封构件的侧壁进入,以便用X射线照射样品;及
检测器,其与样品密封构件的底面相对设置,并具有在样品的方 向内从入射点延伸至检测元件的入射立体角,用于检测从给予初级X 射线的样品产生的荧光X射线;
其中荧光X射线分析设备从检测的荧光X射线的谱进行样品的元 素的分析;
样品密封构件具有向着检测器逐渐变细的锥形形状,且锥形形状 从样品密封构件的底面朝着检测器设置的侧面相对的方向随着检测 器的视场的延伸而延伸。
2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中产生初级X射线的X射线源与样品密封构件的侧壁相对设 置。
3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中初级X射线布置为能够照射检测器相对的样品密封构件的 底面。
4.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中样品密封构件为可以自由地接附和分开的样品外壳。
5.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中通过插入初级滤光器用于选择性地仅激发X射线源和样品 密封构件的侧壁之间的聚焦元素,当检测器观察聚焦元素时,改进聚 焦元素在谱上的峰-背比例。
6.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中通过在样品密封构件的侧壁上设置用于产生最适于激发聚 焦元素的荧光X射线的金属壁,当从检测器观察时,改进聚焦元素在 谱上的峰-背比例。
7.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中通过在样品和检测器之间具有用于仅允许聚焦元素的荧光X 射线选择性地传输通过的次级滤光器,当从检测器观察时,改进聚焦 元素在谱上的峰-背比例。
8.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
在样品密封构件的初级X射线入射表面上,具有不少于一件允许 用于激发聚焦元素的X射线有选择性地传输通过的初级滤光器;
其中通过旋转样品密封构件,初级滤光器可以改变。
9.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
在样品密封构件的检测器的底面上,包括至少一件允许聚焦元素 的荧光X射线有选择性地传输通过的次级滤光器;
其中通过旋转样品密封构件,次级滤光器可以改变。
10.根据权利要求1所述的荧光X射线分析设备,
其中通过在样品密封构件的侧壁上设置至少一个用于产生最适 于激发聚焦元素的荧光X射线的金属构件,通过旋转样品密封构件, 金属构件可以改变。
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