[发明专利]光吸收防反射构造体,光学单元，透镜镜筒单元和光学装置

说明书

技术领域

本发明涉及光吸收防反射构造体、包括该光吸收防反射构造体的光学单元和透镜镜筒单元、以及包括该光学单元和透镜镜筒单元的光学装置。 

背景技术

例如，在2003-266580号日本专利申请公开公报中，通过向衬底表面涂敷黑色材料形成一层涂膜，然后使该涂膜干燥，同时形成贝纳尔旋流窝，从而提供一种具有增强的光吸收特性的光吸收构件。 

在WO2005/088355号WO公报中，本发明人提出了一种由黑色材料形成的光吸收构件，该光吸收构件具有曲面，在曲面上形成有微小凹凸部。 

发明内容

但是，在2003-266580号日本专利申请公开公报和WO2005/088355号WO公报中公开的已知的光吸收构件具有光反射不能被充分抑制的问题。具体地说，在WO2005/088355号WO公报中公开的光吸收构件呈现较高的防反射效果，但发生规则反射的情况除外。也就是说，规则反射的发生不能被充分抑制的问题仍然存在。 

鉴于上述论点而提出了本发明，因此本发明的目的是提供一种反射被充分抑制的光吸收防反射构造体。 

为了实现上述目的，根据本发明的光吸收防反射构造体致力于一种抑制波长等于或大于规定波长的光的反射并且吸收该反射被抑制的光的光吸收防反射构造体，其特征在于，该光吸收防反射构造体具有表面粗糙度大于规定波长的粗糙表面，以及在该粗糙表面上形成有多个微小凹凸部，这些微小凹凸部以小于或等于规定波长的周期规则地排列。 

根据本发明的光学单元的特征在于，该光学单元包括光学系统和光吸收防反射构造 体，光吸收防反射构造体用于抑制来自光学系统的光的反射并吸收来自光学系统的光，光吸收防反射构造体被配置成使来自光学系统的光进入该光吸收防反射构造体中，该光吸收防反射构造体包括来自光学系统的光进入的表面，该表面被形成为具有表面粗糙度大于来自光学系统的光的波长的粗糙表面，以及在该表面上形成有多个微小凹凸部，这些微小凹凸部以等于或小于来自光学系统的光的波长的周期规则地排列。 

根据本发明的透镜镜筒单元的特征在于，该透镜镜筒单元包括光学系统和用于在内部存放该光学系统、抑制来自光学系统的光的反射并吸收来自光学系统的光的透镜镜筒，所形成的透镜镜筒形成为使得内周表面是粗糙表面，该粗糙表面具有大于来自光学系统的光的波长的表面粗糙度，以及在该内周表面上形成有多个微小凹凸部，这些微小凹凸部以等于或小于来自光学系统的光的波长的周期规则地排列。 

根据本发明的光学装置的特征在于，该光学装置包括根据本发明的光学单元或透镜镜筒单元。 

根据本发明，能够实现较高的防反射效果。 

附图说明

图1是说明成像装置1的主要部分的结构的示意图。 

图2是透镜镜筒5的正视图。 

图3是透镜镜筒5的一部分的放大的截面图。 

图4是透镜镜筒5的一部分的进一步放大的截面图。 

图5是显示入射角和反射系数之间的关系的曲线图。 

图6是显示45度入射角的入射光的反射光强度的图表。 

图7是显示在形成有微小凹凸部11的表面上入射角和反射系数之间的关系的图表。 

图8是显示θ_ave和反射系数之间的关系的图表。 

图9是说明图4所示的内周表面10的一部分的粗糙形状的截面图。 

图10是说明θ大于90％的情况的截面图。 

图11是对内周表面10的在基准面的法线方向上的高度分布进行傅里叶变换而得到的频谱。

具体实施方式

下文将参考附图叙述本发明的实施例。在本文中，根据本发明实施的光学装置将参考作为实例的成像装置进行叙述。但是，根据本发明的光学装置不限于所述成像装置，而可以是诸如照明装置、放映机等的其他光学装置。 

图1是说明根据本实施例的成像装置1的主要部分的结构的示意图。 

成像装置1包括装置本体3和作为光学单元的透镜镜筒单元2。在该情况下将叙述透镜镜筒单元2安装到装置本体3的实例。但是，例如，透镜镜筒单元2可以构造成可拆卸的单元。