[发明专利]复合式研磨垫及其制造方法

权利要求书

1. 一种复合式研磨垫，包括：

一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一平整化表面，所述平整化表 面的不均匀度百分比低于6.0％；和

一抛光层，所述抛光层为连续多孔性材料，复合于所述平整化表面上，以形成所 述复合式研磨垫，其中所述抛光层用以抛光一待抛光元件。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中所述缓冲层为一连续多孔性高分子弹性体，所 述抛光层为一连续多孔性高分子弹性薄片。

3.根据权利要求2所述的研磨垫，其中所述缓冲层选自聚酯(PET)、寡苯烯乙烯(OPP)、 聚烯烃(TPE)、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚脲酯(PU)或 其组成的群组。

4.根据权利要求1所述的研磨垫，其中所述抛光层具有复数个研磨粒子，所述研磨粒 子均匀地分布于所述抛光层中。

5.根据权利要求1所述的研磨垫，其中所述抛光层具有一表面，其具有复数条高分子 弹性绒毛和复数个开孔。

6.根据权利要求1所述的研磨垫，另包括复数条沟槽形成于所述抛光层上。

7.根据权利要求6所述的研磨垫，其中所述沟槽为三角形、正方形或矩形等几何形状。

8.一种复合式研磨垫的制造方法，所述制造方法包括；

(a)提供一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一表面；

(b)平整化所述表面，使所述表面形成一平整化表面；和

(c)将一抛光层复合于所述平整化表面上，以形成一复合式研磨垫，其中所述 抛光层为连续多孔性材料，用以抛光一待抛光元件，其中所述抛光层复合于所述平 整化表面包括以下步骤：

(c1)提供一载体；

(c2)将一高分子组成物涂覆于所述载体上；

(c3)固化所述高分子组成物，以形成所述抛光层；

(c4)分离所述载体与所述抛光层；和

(c5)将所述抛光层贴附于所述平整化表面上。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其中所述缓冲层由以下步骤形成：

(a1)提供一非织物；

(a2)将所述非织物沉浸在一高分子溶液中；

(a3)固化含高分子溶液的所述非织物，以形成一初始缓冲层；和

(a4)将所述初始缓冲层剖片，以形成所述缓冲层。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其中在含高分子溶液的所述非织物凝固后另包括 一水洗含高分子溶液的所述非织物的步骤。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其中在水洗含高分子溶液的所述非织物步骤之后 另包括一烘烤步骤，以固化含高分子溶液的所述非织物。

12.根据权利要求8所述的制造方法，其中在步骤(b)中利用研磨方法平整化所述表面。

13.根据权利要求12所述的制造方法，其中所述平整化表面的不均匀度百分比低于6％。

14.根据权利要求12所述的制造方法，其中在研磨步骤之后另包括一整烫所述平整化表 面的步骤。

15.根据权利要求8所述的制造方法，其中在步骤(c1)中的所述载体为一不透水的薄 膜。

16.根据权利要求8所述的制造方法，其中在步骤(c1)中的所述载体的材料选自聚酯 (PET)、寡苯烯乙烯(OPP)、聚烯烃(TPE)、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、聚 乙烯(PE)、聚脲酯(PU)或其组成的群组。

17.根据权利要求8所述的制造方法，其中在步骤(c3)之后另包括一研磨整平所述抛 光层的步骤。

18.根据权利要求17所述的制造方法，其中在研磨步骤之后所述载体的一表面为一平滑 面或亮面。

19.根据权利要求8所述的制造方法，其中在步骤(c4)中利用机械物理方式分离所述 载体与所述抛光层。