[发明专利]预涂辊子清洗单元及清洗方法和基板涂敷装置

权利要求书

1.一种清洗单元，用于清洗基板涂敷装置的预涂辊子上的光刻胶，其特征在于包含：

外壳，该外壳的长度大于所述预涂辊子的长度，该外壳上部形成开口以露出位于所述外壳内部的所述预涂辊子的上部表面，所述外壳内部装有清洗液以用于浸渍所述预涂辊子下部的一部分；

设在所述预涂辊子被所述清洗液浸渍之前位置的溶剂滴落器；

设在所述预涂辊子被所述清洗液浸渍之后位置的刮刀及CDA干燥器；

向所述外壳内部发射超声波的超声波生成单元，

所述超声波生成单元包含振子和向所述振子提供信号的超声波振荡器，所述振子面向所述预涂辊子的一面具有对应所述预涂辊子的曲线。

2.根据权利要求1所述的清洗单元，其特征在于所述振子设置为多个，分别提供到所述各振子的高频电压控制为具有相同相位。

3.根据权利要求1或2所述的清洗单元，其特征在于所述外壳内部设有清洗槽，所述清洗液装在所述清洗槽内。

4.一种基板涂敷装置，用于对基板进行涂敷，其特征在于包含放置基板的涂敷部、预喷出部、向所述基板喷射涂敷液的喷嘴部，且所述预喷出部具有如权利要求1所述的清洗单元。

5.一种清洗方法，用于清洗基板涂敷装置的预涂辊子，其特征在于包含步骤：

旋转被喷射光刻胶的所述预涂辊子；

稀释所述光刻胶；

利用超声波清洗所述光刻胶；

清除所述预涂辊子上的残留物；

对所述预涂辊子进行干燥，

其中，利用超声波生成单元进行所述的利用超声波清洗所述光刻胶的步骤，所述超声波生成单元包含振子和向所述振子提供信号的超声波振荡器，所述振子面向所述预涂辊子的一面具有对应所述预涂辊子的曲线。