[发明专利]预涂辊子清洗单元及清洗方法和基板涂敷装置

说明书

技术领域

本发明涉及预涂辊子(Priming Roller)清洗单元及清洗方法和包含所述清洗单元的基板涂敷装置，尤其涉及利用超声波增大预涂辊子清洗能力的预涂辊子清洗单元及清洗方法和包含所述清洗单元的基板涂敷装置。

背景技术

通常，在光刻工艺中用来均匀涂敷光刻胶(Photoresist)的方法有滚涂(Roll Coating)方法、旋涂(Spin Coating)方法、狭缝涂敷(Slit Coating)方法。滚涂是在将光刻胶承载于圆柱形辊子外部之后使所述辊子在基板上按一定方向滚动而涂敷光刻胶的方法；旋涂是在圆盘形支撑体上放置基板并在所述基板中央滴落光刻胶之后使基板旋转，从而根据离心力在基板上涂敷光刻胶的方法；狭缝涂敷是按照一定方向扫过基板的同时通过狭缝形状的喷嘴将光刻胶喷到基板而进行涂敷的方法。

但是，基板越大越重，越难以使基板高速旋转，而且高速旋转时基板受到的损伤或能耗也越大。因此，液晶显示面板所使用的玻璃基板等平板显示装置用基板主要使用狭缝涂敷方法。

用来进行所述狭缝涂敷的狭缝涂敷装置包含：用于放置基板的基板固定盘(Chuck)；设在所述基板固定盘一侧的预喷出部；位于所述基板固定盘及预喷出部上部的狭缝喷嘴(slit-nozzle)，该狭缝喷嘴一边水平移动一边向基板喷出光刻胶。即，狭缝喷嘴先在预喷出部上部进行预喷出之后，水平移动到放置基板的基板固定盘向基板喷出光刻胶。为了使光刻胶均匀分布在基板上，狭缝喷嘴在喷出光刻胶时匀速移动。

图1为具有一般清洗单元的预喷出部的截面图。

如图1所示，预喷出部包含外壳10、位于所述外壳10内部的预涂辊子12和用于浸渍所述预涂辊子12一部分的清洗槽15。

所述外壳10上部形成开口，圆筒形预涂辊子12位于所述外壳10内部，预涂辊子12上部的一部分通过所述外壳10的开口露出。并且，在所述外壳10下部设置清洗槽15，以用于浸渍所述预涂辊子12下部的一部分。

沿所述外壳10的内壁依次设置溶剂滴落单元14、第一刮刀(blade)16、第一溶剂喷射器18、第二溶剂喷射器20、第二刮刀22以及利用清洗用干燥空气的干燥器24(以下称CDA干燥器)。

即，当狭缝喷嘴30在进行旋转的预涂辊子12上部涂敷光刻胶时，溶剂滴落单元14将溶剂滴到预涂辊子12上稀释粘在预涂辊子12上的光刻胶。经稀释的光刻胶由第一刮刀16以接触方式清除，接着由第一溶剂喷射器18向预涂辊子12喷射溶剂而清洗光刻胶。然后，预涂辊子12浸到清洗槽15内，由此清洗附着在预涂辊子12上的光刻胶。

经过清洗的预涂辊子12表面通过第二溶剂喷射器20及第二刮刀22清除残留的光刻胶。最后，通过CDA干燥器24对预涂辊子12进行干燥而完成清洗。

然而，随着基板的大型化，预涂辊子12的轴向长度日益增加，因此需要调整预喷出部结构以适应预涂辊子12的长度。尤其，随着预喷出部变大，为了正常供应和排出溶剂，溶剂滴落单元14、第一及第二刮刀(16、22)、第一及第二溶剂喷射器(18、20)和CDA干燥器24等具有由多个配管构成的复杂结构。

并且，预涂辊子12也变大，由于对预涂辊子12的清洗能力被滴落及喷射到辊子12上的溶剂的流量及压力等因素所左右，因此若想相对提高清洗能力，就需要更多流量的溶剂。

发明内容

本发明是为了解决如上所述的问题而提出的，其目的在于提供一种预涂辊子清洗单元及清洗方法和包含所述清洗单元的基板涂敷装置，通过使用超声波来清洗预涂辊子，从而简化装置结构并提高清洗能力。

为了实现上述目的，本发明所提供的清洗单元用于清洗基板涂敷装置的预涂辊子上的光刻胶，包含：外壳，该外壳的长度大于所述预涂辊子的长度，该外壳上部形成开口以露出位于所述外壳内部的所述预涂辊子的上部表面，所述外壳内部装有清洗液以用于浸渍所述预涂辊子下部的一部分；设在所述预涂辊子被清洗液浸渍之前位置的溶剂滴落器；设在所述预涂辊子被清洗液浸渍之后位置的刮刀及CDA干燥器；向所述外壳内部发射超声波的超声波生成单元，所述超声波生成单元包含振子和向所述振子提供信号的超声波振荡器，所述振子面向预涂辊子的一面具有对应所述预涂辊子的曲线。

并且，所述振子设置为多个，分别提供到所述各振子的高频电压控制为具有相同相位。

并且，所述外壳内还可以包含装有清洗液的清洗槽。

本发明所提供的用于对基板进行涂敷的基板涂敷装置包含：放置基板的涂敷部、预喷出部、向所述基板喷射涂敷液的喷嘴部，所述预喷出部具有上述的清洗单元。