[发明专利]薄膜图案层的制造方法无效

专利信息
申请号: 200710107989.6 申请日: 2007-05-22
公开(公告)号: CN101312115A 公开(公告)日: 2008-11-26
发明(设计)人: 周景瑜;王宇宁;黄继震;廖义铭 申请(专利权)人: ICF科技有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/71;H01L21/768;H01L21/02;H01L51/56;H01L51/00;G02B5/23;H05B33/10;H05K3/12
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 代理人: 周春发
地址: 美国加州95054圣*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 图案 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜图案层的制造方法,其包括以下步骤:

提供一个基板,所述基板具有多个挡墙,所述多个挡墙与所述基板限定有多个收容空间,每一个收容空间具有相互平行的第一侧边及第二侧边,第一侧边与第二侧边的距离为b,该多个收容空间形成沿着平行于第一侧边及第二侧边的方向排布的多个行,及沿着垂直于第一侧边方向排布的多个列,每相邻两行收容空间的第一侧边之间的间隔为d;

提供第一喷嘴与第二喷嘴,该第一、第二喷嘴的中心连线相对该第一侧边倾斜设置,且该第一、第二喷嘴之间的间距在垂直于第一侧边的方向上的投影等于d;

该第一喷嘴沿着第一路线移动并对该收容空间喷入墨水,该第一路线位于一个待处理的收容空间的第一侧边与第二侧边之间,与该第一侧边平行,且距离为a;

该第二喷嘴沿着第二路线移动并对该收容空间喷入墨水,该第二路线与该第一路线平行且方向相反,该第二路线与该第一路线的距离c符合以下两个关系式之一:0<c<b-a,及0<c<a;

干燥固化收容空间的墨水而形成薄膜图案层。

2.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该墨水至少包括一种溶剂,该溶剂的沸点高于170℃。

3.如权利要求2所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该溶剂的沸点高于185℃。

4.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述基板材料选自玻璃、硅晶圆、金属或塑料。

5.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该干燥固化步骤采用以下装置中的至少一种:一种抽真空装置、一种加热装置及一种曝光装置。

6.如权利要求5所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该曝光装置包括紫外光曝光照射装置。

7.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一 喷嘴及第二喷嘴均位于同一喷墨头。

8.如权利要求7所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该喷墨头系热泡式或压电式。

9.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一喷嘴及第二喷嘴分别位于第一喷墨头及第二喷墨头。

10.如权利要求9所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一、第二喷墨头为同一型号之喷墨头。

11.如权利要求9所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一、第二喷墨头为不同型号之喷墨头。

12.如权利要求9所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一、第二喷墨头均设置于同一机台上。

13.如权利要求9所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述第一、第二喷墨头分别设置于不同之机台上。

14.一种薄膜图案层的制造方法,其包括以下步骤:

提供一个基板,所述基板具有多个挡墙,所述多个挡墙与所述基板限定有多个收容空间,每一个收容空间具有相互平行的第一侧边及第二侧边,第一侧边与第二侧边的距离为b,该多个收容空间形成沿着平行于第一侧边及第二侧边的方向排布的多个行,及沿着垂直于第一侧边方向排布的多个列,每相邻两行收容空间的第一侧边之间的间隔为d;

提供一个喷墨头,该喷墨头相对于该第一侧边倾斜设置,该喷墨头具有多个喷嘴,每相邻两个喷嘴之间的间距在垂直于第一侧边的方向上的投影等于d,任选一个喷嘴,该喷嘴沿着第一路线移动并对该收容空间喷入墨水,该第一路线位于一个待处理的收容空间的第一侧边与第二侧边之间,与该第一侧边平行,且距离为a;

该喷嘴沿着第二路线移动并对该收容空间喷入墨水,该第二路线与该第一路线平行且方向相反,该第二路线与该第一路线的距离c符合以下两个关系式之一:0<c<b-a,及0<c<a;

干燥固化收容空间的墨水而形成薄膜图案层。

15.如权利要求14所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该墨水至少包括一种溶剂,该溶剂的沸点高于170℃。 

16.如权利要求15所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,该溶剂的沸点高于185℃。

17.如权利要求14所述的薄膜图案层的制造方法,其特征在于,所述基板材料选自玻璃、硅晶圆、金属或塑料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ICF科技有限公司,未经ICF科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710107989.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top