[发明专利]印刷抗蚀剂及其制备方法和利用该印刷抗蚀剂的图案化方法

说明书

本申请要求于2006年6月9日提交的韩国专利申请2006-52043号 的权益，其全部内容在此以参考的方式引入。

技术领域

本发明涉及液晶显示(LCD)装置，更具体地是，涉及一种印刷抗 蚀剂，所述印刷抗蚀剂适用于作为液晶显示(LCD)装置的图案化方法 所采用的印刷中。

背景技术

近年来，具有厚度为数厘米的超薄显示屏的各种平板显示装置已经 得到应用。具体说来，液晶显示(LCD)装置由于具有低工作电压、低 消耗功率和便携性等优点，因而在包括笔记本电脑、显示器、航天器、 航空器的各种用途中得到了广泛应用。

这种LCD包括第一基板和第二基板，以及夹在第一基板和第二基板 之间的液晶层。

第一基板包括多条栅极线和沿与栅极线垂直的方向布置的多条数据 线，以限定像素区域。第一基板还包括多个薄膜晶体管(TFT)和形成于 各像素区域的多个像素电极，所述薄膜晶体管(TFT)分别形成于一条相 关栅极线与一条相关数据线的交叉点处。每个像素电极均与相关的一个 薄膜晶体管相连。

第二基板包括阻挡层，所述阻挡层用于阻挡光从栅极线、数据线和 薄膜晶体管泄漏。第二基板还包括形成在阻挡层上的滤色层和形成在滤 色层上的公共电极。

如上所述，LCD装置包括各种构成元件。因此，通过执行一系列用 于形成构成元件的步骤来生产LCD装置。具体说来，通常利用光刻法来 使各构成元件形成各种形状的图案。

图1A至1D分别是示意性地说明传统光刻法的截面图。

如图1A所示，在基板10上依次形成图案层20和光致抗蚀剂层30。

如图1B所示，使用光照射器通过具有预定图案的掩模40对光致抗 蚀剂层30进行光照。

如图1C所示，通过显影和蚀刻处理使图案层20和光致抗蚀剂层30 图案化。

如图1D所示，使用光致抗蚀剂剥离器除掉光致抗蚀剂层30，以形 成最终的光致抗蚀剂图案。

光刻法必然涉及具有预定图案的光掩模的使用，因而不利地导致了 与光掩模相应的生产成本的增加。另外，光刻法还涉及显影处理等，因 此导致生产过程比较复杂，并且需要很长的生产时间。

因此，一直存在开发能够克服光刻法的这些不利因素的新型图案化 方法的需求。为满足这种需求，提出了利用印辊的图案化方法。

图2A至2D是示意性地说明利用印辊的传统图案化方法的截面图。

如图2A所示，利用印刷喷嘴50向其表面上装有覆层65的印辊60 上施加光致抗蚀剂30。

由于安装在印辊60表面上的覆层65由弹性树脂制成，因此，在将 施加到印辊60上的光致抗蚀剂30转印到印刷板上时，其可以用于减少 印辊60和印刷板之间的摩擦。

如图2B所示，使印辊60在具有以预定图案形成的凸出部分75的印 刷板70上转动，从而将部分光致抗蚀剂30b转印到凸出部分75上。结 果通过残留光致抗蚀剂30a将印辊60图案化。

如图2C所示，使印辊60在形成有图案层20的基板10上转动，从 而将光致抗蚀剂30a转印到基板10上。

如图2D所示，利用光致抗蚀剂30a作为掩模来蚀刻图案层20，然 后使用光致抗蚀剂剥离器将其除掉，从而形成光致抗蚀剂图案。

在利用印辊的图案化方法和光刻法中，使用光致抗蚀剂30作为用于 蚀刻图案层的掩模。

由于光照时光致抗蚀剂的性质会发生变化，因此对于光刻法很有用。 然而，当将光致抗蚀剂用在不涉及曝光的使用印辊的图案化方法中时， 会出现图案缺陷，因而使得无法形成理想的图案。

因此，越来越需要开发能够在利用印辊的图案化方法中用作光致抗 蚀剂的替代品的新型抗蚀剂。

发明内容

因此，本发明涉及印刷抗蚀剂及其制备方法，和利用该印刷抗蚀剂 的图案化方法，该方法可以充分避免因现有技术的局限性和缺点而出现 的一个或多个问题。

本发明的一个目的是提供能够被恰当地转印到印刷板和基板上并因 而实现理想图案的印刷抗蚀剂。

本发明的另一个目的是提供利用该印刷抗蚀剂的图案化方法。