[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法以及基板的制造方法无效
| 申请号： | 200710111436.8 | 申请日： | 2007-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101130187A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 森口善弘;小笠原和义;井崎良;釜石孝生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高科技 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;G02F1/1333;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 以及 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种基板清洗装置，其特征在于该基板清洗装置包括：
刷子，横跨基板的宽度而设，且一边旋转一边接触于基板；
移动机构，使基板与所述刷子相对地移动；以及
保持机构，保持所述刷子可向旋转轴的轴方向移动。
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于其中所述的保持机构具有：轴承，支撑所述刷子的旋转轴；以及导向器，向所述刷子的旋转轴的轴方向引导该轴承。
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于其包括往返机构，该往返机构使所述刷子在旋转轴的轴方向上往返规定距离。
4.一种基板清洗方法，其特征在于其包括：
横跨基板的宽度而设置刷子，
使基板与刷子相对地移动，
一边保持刷子可向旋转轴的轴方向移动一边使刷子旋转并使刷子接触于基板。
5.根据权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于其利用轴承来支撑刷子的旋转轴，并利用导向器向刷子的旋转轴的轴方向引导轴承。
6.根据权利要求4或5所述的基板清洗方法，其特征在于其使刷子在旋转轴的轴方向上往返规定距离。
7.一种基板的制造方法，其特征在于其使用如权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置而清洗基板后，进行规定的药液处理。
8.一种基板的制造方法，其特征在于其使用如权利要求4至6中任一项所述的基板清洗方法而清洗基板后，进行规定的药液处理。
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