[发明专利]描图系统

权利要求书

1.一种描图系统，该描图系统包括：

光源；

至少一光调变单元，其对于被描图体，根据具有基于所规定的坐标系的位置坐标的描图资料，而调变来自上述光源的照明光；

量测装置，其在被描图体变形的状态下，可量测在上述被描图体上预设的构成基准矩形的顶点的四个量测用指针的位置；

修正装置，其根据藉由分割上述基准矩形而定出的复数个基准分割区域以及藉由分割以所量测的上述四个量测用指针做为顶点的变形矩形而定出的矩形状复数个变形分割区域，在各基准分割区域中，修正描图资料的位置坐标而产生修正描图资料；以及

描图处理装置，其控制上述光调变单元，根据修正描图资料形成描图图案，其中上述修正装置修正描图资料的位置坐标，使得根据对应于各变形分割区域的以基准分割区域为准的变形量修正矩形区域，

上述修正装置算出作为上述变形量的中心位置的偏移量、旋转量、尺寸比至少其中之一，而修正描图资料的位置坐标，

上述修正装置系根据对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的中心位置的偏移量、对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的旋转角以及对应于上述基准矩形的上述变形矩形的尺寸比，而修正描图资料的位置坐标。

2.如权利要求1所述的描图系统，其中，上述修正装置，以各变形分割区域的四个顶点假定为四个变形分割用指针，同时以上述基准分割矩形的四个顶点假定为四个基准分割用指针，根据上述四个变形分割用指针与上述四个基准分割用指针，修正描图资料的位置坐标。

3.如权利要求1所述的描图系统，其中，上述尺寸比为上述变形分割区域的相向的一对边的长度的平均与对应的基准分割区域的一对边的长度的比。

4.如权利要求1所述的描图系统，其中，上述光调变单元系由二维规则性排列的复数个光调变组件所构成。

5.如权利要求1所述的描图系统，其中，上述描图资料为向量资料。

6.一种描图资料修正装置，该描图资料修正装置包括：

量测装置，其在被描图体变形的状态下，可量测在上述被描图体上预设的构成基准矩形的顶点的四个量测用指针的位置；以及

修正装置，其根据藉由分割上述基准矩形而定出的复数个基准分割区域以及藉由分割以所量测的上述四个量测用指针做为顶点的变形矩形而定出的复数个变形分割区域，在各基准分割区域中，修正描图资料的位置坐标而产生修正描图资料，

其中，上述修正装置修正描图图案的位置坐标，使得根据对应于各变形分割区域的以各基准分割区域为准的变形量修正矩形区域，

上述修正装置算出作为上述变形量的中心位置的偏移量、旋转量、尺寸比至少其中之一，而修正描图资料的位置坐标，

上述修正装置系根据对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的中心位置的偏移量、对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的旋转角以及对应于上述基准矩形的上述变形矩形的尺寸比，而修正描图资料的位置坐标。

7.一种描图资料修正方法，描图资料修正方法包括下列步骤：

在被描图体变形的状态下，量测在上述被描图体上预设的构成基准矩形的顶点的四个量测用指针的位置；

根据藉由分割上述基准矩形而定出的复数个基准分割区域以及藉由分割以所量测的上述四个量测用指针做为顶点的变形矩形而定出的复数个矩形状变形分割区域，在各基准分割区域中，修正描图资料的位置坐标而产生修正描图资料；以及

修正描图资料的位置坐标，使得根据对应于各变形分割区域的以基准分割区域为准的变形量修正矩形区域，

在上述产生修正描图资料的步骤中，算出作为上述变形量的中心位置的偏移量、旋转量、尺寸比至少其中之一，而修正描图资料的位置坐标，

上述产生修正描图资料的步骤系根据对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的中心位置的偏移量、对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的旋转角以及对应于上述基准矩形的上述变形矩形的尺寸比，而修正描图资料的位置坐标。

8.一种基板的制造方法，该制造方法包括下列步骤：

在空白的基板上涂布感光材料；

对于涂布后的基板进行描图处理；

对于描图处理后的基板进行显像处理；

对于显像处理后的基板进行蚀刻或镀膜处理；以及

对于蚀刻或镀膜处理后的基板进行感光材料的剥离处理，

其中，在描图处理中，藉由权利要求7所述之描图资料修正方法修正描图资料。