[发明专利]描图系统

说明书

技术领域

本发明是有关于一种以作为原版的光罩(レクチル)或直接地对印刷基板或矽晶等的被描图体形成电路图案等的图案的描图装置。特别是对应于基板的变形而修正描图位置。

背景技术

在基板等的被描图体的制程中，对于涂布了光阻等的感光材料的被描图体实施为了形成图案的描图处理。经过了显像处理、蚀刻或镀膜处理、光阻剥离等的制程，在被描图体上形成图案。例如，在使用使LCD、DMD、SLM(Spatial Light Modulators)等光调变组件做二维排列的光调变单元的描图装置中，使光调变单元形成的照射区域(以下称曝光区域)对于基板做相对性的扫描，同时对应于描图图案以既定的时序控制各光调变组件。

由于基板本身由热处理、堆积等因素而变形，设有对准调整用的标记，在基板变形的状态下，根据所量测的定位标记，修正图案的描图位置。设定在基板的四角构成矩形的对准标记，根据实际量测到的对准标记的位置，算出基板变形所造成的重心位置的偏移以及描图区域的旋转倾斜角等。然后，根据算出的资料修正描图位置(参照专利文献1、2)

专利文献1日本特开2005-300628号公报

专利文献2日本特开2000-122303号公报

发明内容

由于基板变形的状态是不均一的，各描图区域的中心附近以及其以外，例如在边界附近，基板的变形方向、变形量等的变形状态是不同的。因此，大约相同尺寸的描图图案在基板上分割成复数块(多倒角)描图的情况下，在对描图区域整体以代表性的修正量修正描图位置时，若不将描图位置修正为适当的位置，则无法形成精度佳的图案。

本发明的描图系统为对应于基板的变形而适当地修正，同时在形成阶层性的描图图案之际，可维持各描图(倒角)图案的区域形状的描图系统。描图系统包括：光源；至少一光调变单元，其对于被描图体，根据具有基于所规定的坐标系的位置坐标的描图资料，而调变来自上述光源的照明光；量测装置，其在被描图体变形的状态下，可量测在上述被描图体上预设的构成基准矩形的顶点的四个量测用指针的位置；修正装置，其根据藉由分割上述基准矩形而定出的复数个基准分割区域以及藉由分割以所量测的上述四个量测用指针做为顶点的变形矩形而定出的矩形状复数个变形分割区域，在各基准分割区域中，修正描图资料的位置坐标而产生修正描图资料；以及描图处理装置，其控制上述光调变单元，根据修正描图资料形成描图图案，其中上述修正装置修正描图资料的位置坐标，使得根据对应于各变形分割区域的以基准分割区域为准的变形量修正矩形区域，上述修正装置算出作为上述变形量的中心位置的偏移量、旋转量、尺寸比至少其中之一，而修正描图资料的位置坐标，上述修正装置系根据对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的中心位置的偏移量、对应于上述基准分割区域的上述变形分割区域的旋转角以及对应于上述基准矩形的上述变形矩形的尺寸比，而修正描图资料的位置坐标。例如可修正具有成为向量资料的位置坐标信息的描图资料的位置坐标，转换成光栅资料而实施描图处理。又，光调变组件可为DMD、LCD等复数个光调变组件做二维规则性的排列而形成。

在本发明中，藉由分割基准矩形而定出复数个分割区域(以下称基准分割区域)，同时以量测到的四个量测用指针做为顶点，藉由分割基准矩形变形的四角形(以下称变形矩形)而定出矩形状复数个分割区域(以下称变形分割区域)。即，在四点的量测用指针的全体性描图区域中，分别对基准矩形、变形矩形定出复数个描图区域。每个分割的区域成为描图图案区域。然后，修正装置在各基准分割区域中修正在各区域内的描图资料的位置坐标。而且，修正装置修正描图资料的位置坐标，而根据以基准分割区域为准的变形状态将各变形分割区域修正为矩形区域。在此处的变形状态为相对于基准分割区域的中心位置、重心位置的偏移、旋转程度及尺寸比等所表示的变形量。藉由使变形的分割描图区域成为矩形状的描图位置修正，及使在形成阶层性的图案的情况下，也不会产生图形的偏差。又，由于根据各区域的误差而修正，整体性的描图区域的局部性的误差量也对应于分割区域的数量n而变成1/n，修正的精度提升。形成于各描图区域的描图图案可为重复描图(倒角)的相同尺寸，对每个重复的图案进行修正处理。在此情况下，在向量资料中包含有哪个描图图案的配置坐标以及邻接的图案间的间隔(间距)。