[发明专利]用于光刻术的反射镜阵列

权利要求书

1.一种反射镜阵列装置，包括：

用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体；

与各反射元件相关联的执行器，所述执行器用来调整相关联的反射元件相对于所述承载体的取向或位置；以及

与所述反射元件的一部分相接触的液体，其中

所述液体是水、氯化铝、磷酸氢盐、磷酸、或硫酸钠的浸没液体，并且

所述执行器由交流电驱动。

2.如权利要求1所述的装置，其中，各反射元件可以绕基本上平行于所述承载体的平面的轴转动。

3.如权利要求1所述的装置，其中，各反射元件可绕两个轴转动，这两个轴都基本平行于所述承载体的平面。

4.如权利要求1所述的装置，其中，各反射元件由弹性构件支撑在所述承载体上。

5.如权利要求1所述的装置，其中，各反射元件具有包含反射表面的正面和配置成与所述执行器配合动作的背面，所述液体设置成与所述反射元件的所述背面的至少一部分相接触。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述液体设置在所述反射元件和所述承载体之间。

7.如权利要求1所述的装置，其中，所述液体包围所述反射元件。

8.如权利要求1所述的装置，还包括设置成基本上平行于所述承载体并且与所述承载体隔开的盖。

9.如权利要求1所述的装置，其中，所述液体是水。

10.如权利要求1所述的装置，其中，使所述液体从所述反射元件离开而环流。

11.如权利要求10所述的装置，其中，使所述液体从所述反射元件环流到热控制单元。

12.如权利要求1所述的装置，还包括电容传感器。

13.如权利要求1所述的装置，其中所述执行器包括静电执行器。

14.如权利要求1所述的装置，其中，所述交流电包括高频方波交流电。

15.一种光刻设备，包括：

用来提供辐射束的照明系统；

用来支撑图案形成装置的支持体，所述图案形成装置配置成可将图案赋予所述辐射束的截面；

用来支撑衬底的衬底台；

投影系统，配置成将图案化的射束投射到所述衬底的目标部分上；以及

反射镜阵列装置，其中包括：

用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体；

与各反射元件相关联的执行器，所述执行器配置成可调节所述相关联反射元件相对于所述承载体的取向或位置；以及

与所述反射元件的一部分相接触的液体，其中

所述液体是水、氯化铝、磷酸氢盐、磷酸、或硫酸钠的浸没液体，并且

所述执行器由交流电驱动。

16.一种照明系统，配置成在光刻设备中提供辐射束，所述系统包含反射镜阵列装置，所述反射镜阵列装置包含：

用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体；

与各反射元件相关联的执行器，所述执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于所述承载体的取向或位置；以及

与所述反射元件的一部分相接触的液体，其中

所述液体是水、氯化铝、磷酸氢盐、磷酸、或硫酸钠的浸没液体，并且

所述执行器由交流电驱动。

17.一种冷却反射镜阵列装置的方法，所述装置包括多个单独可调的反射元件、用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体与各反射元件相关联的执行器，所述执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于所述承载体的取向或位置；所述方法包括提供与所述反射元件的至少一部分直接热接触的液体；其中

所述液体是水、氯化铝、磷酸氢盐、磷酸、或硫酸钠的浸没液体，并且

所述执行器由交流电驱动。

18.如权利要求17所述的方法，还包括使所述液体从所述反射元件离开而环流。

19.如权利要求18所述的方法，还包括将热量从所述液体带走并使所述液体返回到所述反射元件。