[发明专利]用于光刻术的反射镜阵列

说明书

技术领域

本发明涉及反射镜阵列，并涉及用于光刻术的反射镜阵列。

背景技术

光刻设备是一种将想要的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造。在那种情况下，可利用另外被称为掩模或掩模原版的图案形成装置生成与IC的单个层相对应的电路图案并且使这个图案可以在具有辐射敏感材料(光刻胶)层的衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上成像。一般地，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网格。已知的光刻设备包括步进机和扫描机，在步进机中，通过一次使整个图案曝光到目标部分上而使各目标部分被照射；在扫描机中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案并同时与这个方向平行或反平行地同步扫描衬底而使各目标部分被照射。

反射镜阵列一般使用小反射元件(或反射镜)的矩阵布置，所述的小反射元件(或反射镜)是单独可调的，例如(通过执行器)可绕轴倾斜，以将图案加到反射的辐射束上。反射镜阵列或者可以被称为“可编程反射镜阵列(programmable mirror array)”、“微反射镜阵列(micromirror array)”或“有源小平面反射镜(active facetedmirror)”。

应当理解，这样的反射镜阵列具有若干用途，尤其可用于光刻设备中。例如，已知使用反射镜阵列构成光刻设备的图案形成装置(例如在用于平板显示器的制造的光刻设备中)。

近来，有人建议在光刻设备的照明系统中使用反射镜阵列。光刻设备的照明系统设置成接收来自源(例如激光器)的辐射并产生用于照射物体(例如图案形成装置)的辐射束。照明系统使辐射束成形并对其控制，以提供具有期望的空间强度分布和角强度的射束。

常规的照明系统可包括衍射光学元件(“DOE”)和“变焦轴锥镜(zoom-axicon)”装置(它是被配置为调节光瞳面的强度分布的装置)。已经发现利用这种常规照明系统的若干缺点。例如，为了产生期望的照明设置的范围，变焦轴锥镜模块通常具有若干(例如五个或更多的)光学元件，这可能使其生产成本很高，若考虑到若干元件必须是可独立移动的事实则尤其如此。另外的问题是轴锥镜的透镜(它可能例如包括变焦透镜和两个锥形元件)的透镜材料具有相当大的厚度和许多表面界面，以致由于吸收、反射、不良涂层、退化效应和污染而导致传输效率低下。这个问题会因为要求以更高密度来将更小的特征成像而加重，它需要使用具有例如193、157、126nm乃至EUV(例如5-20nm)的更短波长的辐射。因此，基于反射镜阵列的照明系统是理想的。

基于反射镜阵列的照明系统比衍射光学元件和变焦轴锥镜的现有技术组合更灵活且更快捷。例如，改变利用现有技术的衍射光学元件生成的照明模式需要若干秒，因为必须替换衍射光学元件。基于反射镜阵列的照明系统允许照明模式能够更快速地改变。此外，现有技术的变焦轴锥镜只能进行空间强度的圆周对称的改变，而基于反射镜阵列的照明系统不受这种限制。

然而，申请人已经认识到与反射镜阵列相关联的许多问题，尤其是用于光刻术时的问题。因为典型的反射镜阵列的单独的反射元件通常非常小，例如反射镜阵列可包括超过1000个微反射镜，所以在使用期间元件易损坏。例如，由(反射镜正在反射的)辐射生成的热量可能导致反射元件由于过热而损坏。这种热量生成例如在用于远UV和EUV应用的高光功率和短波长的情况下尤其值得重视。此外，在反射元件移动期间，例如致动后反射元件的过分振荡会导致损坏。

发明内容

因此，期望提供一种备选的反射镜阵列装置，该设备可克服或减轻现有技术的至少一个缺点。

按照本发明的一个实施例，提供了一种反射镜阵列装置，该设备包括：用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体；与各反射元件相关联的至少一个执行器，该执行器用来调节相关反射元件相对于承载体的取向或位置；以及与反射元件的至少一部分相接触的液体。

按照本发明的另一实施例，提供了一种冷却反射镜阵列装置的方法，该设备包括多个单独可调的反射元件，该方法包括提供与反射镜元件的至少一部分直接热接触的液体。