[发明专利]半导体器件、LED头和图像形成装置有效
申请号: | 200710127114.2 | 申请日: | 2007-06-28 |
公开(公告)号: | CN101097983A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 古田裕典;荻原光彦;藤原博之;猪狩友希;武藤昌孝 | 申请(专利权)人: | 日本冲信息株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L23/00;B41J2/45;G03G15/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 led 图像 形成 装置 | ||
技术领域
本发明涉及用作LED(发光二极管)阵列等的半导体器件,并且 还涉及LED头和包括该LED阵列的图像形成装置。
背景技术
电子照相图像形成装置使用包括组合的LED阵列芯片和驱动芯 片的LED头。LED阵列芯片包括LED的阵列,并且驱动芯片包括驱动 电路。
为了实现高分辨率,这种类型的图像形成装置采用包括半导体衬 底的LED头,在该半导体衬底上安装了多个LED阵列芯片和多个驱 动芯片。
为了减少将要安装的芯片的数目,提出了一种具有这样的结构的 半导体器件:其中半导体薄膜(其中预先形成LED元件)被接合到 其上形成了驱动电路的半导体衬底上。LED元件和驱动电路利用互连 图案电连接。例如在日本专利公开物No.2004-179641中公开了这 种半导体器件。
通过将多个半导体薄膜接合到形成在半导体晶片上的基底绝缘 层上并且通过切割该半导体晶片来制作这种类型的半导体器件。
然而,当如上所述在半导体器件的制作中切割半导体晶片时,切 割机可以在切断位置对基底绝缘层施加大的外力。因此,基底绝缘 层或层状膜(例如在切断位置附近形成在半导体衬底上的多层互连 等)的绝缘膜或金属膜可能从半导体衬底脱落并且可能破裂。此外, 根据基底绝缘层和在切断位置附近的层状膜中的任何一个的脱落, 存在半导体薄膜可能从基底绝缘层脱落的可能性。
发明内容
本发明的目的是提供能够防止基底绝缘层脱落的半导体器件,并 且提供利用该半导体器件的LED头和图像形成装置。
本发明提供利用切割半导体晶片制作的半导体器件。该半导体器 件包括衬底、形成在衬底上的基底绝缘层、形成在基底绝缘层上的 半导体元件、以及与基底绝缘层分开地形成在衬底的端部上的分离 图案部分。该分离图案部分防止在实施切割时基底绝缘层从衬底脱 落。
本发明还提供利用切割半导体晶片制作的半导体器件。该半导体 器件包括衬底、形成在衬底上的基底绝缘层、形成在基底绝缘层上 的半导体元件、以及将基底绝缘层的端部固定在衬底的端部的防脱 落图案部分。
根据下文给出的详细描述,本发明的另外的适用范围将变得显而 易见。然而,应当理解的是,仅借助图示给出了指示本发明的优选 实施例的详细描述和特定实例,因为对本领域技术人员而言根据该 详细描述在本发明的精神和范围内的多种变型和修改将变得明显。
附图说明
在附图中:
图1是示出根据本发明的实施例1的半导体器件的主要部分的平 面图;
图2是示出根据实施例1的半导体器件沿图1中示出的线II- II的截面图;
图3是示出根据实施例1的半导体器件的发光部分沿图1中示出 的线III-III的截面图;
图4是示出根据实施例1的半导体器件的半导体薄膜沿图1中示 出的线IV-IV的截面图;
图5是示出根据实施例1的半导体器件在切割过程中出现的破裂 的平面图;
图6A和6B是示出实施例1的第一修改及其变型的平面图;
图7是示出实施例1的第二修改的平面图;
图8是示出实施例1的第三修改的平面图;
图9是示出实施例1的第四修改的平面图;
图10是示出实施例1的第五修改的平面图;
图11是示出实施例1的第六修改的平面图;
图12是示出实施例1的第七修改的平面图;
图13是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第一修改的截 面图;
图14是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第二修改的截 面图;
图15是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第三修改的截 面图;
图16是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第四修改的截 面图;
图17是示出实施例1的另一修改的平面图;
图18是示出根据本发明的实施例2的半导体器件的平面图;
图19是示出根据实施例2的半导体器件沿图18中示出的线XIX -XIX的截面图;
图20是示出根据实施例2的半导体器件在切割过程中出现的破 裂的平面图;
图21是示出实施例2的第一修改的平面图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本冲信息株式会社,未经日本冲信息株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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