[发明专利]半导体器件、LED头和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 200710127114.2 申请日: 2007-06-28
公开(公告)号: CN101097983A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: 古田裕典;荻原光彦;藤原博之;猪狩友希;武藤昌孝 申请(专利权)人: 日本冲信息株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L23/00;B41J2/45;G03G15/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;刘宗杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件 led 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用作LED(发光二极管)阵列等的半导体器件,并且 还涉及LED头和包括该LED阵列的图像形成装置。

背景技术

电子照相图像形成装置使用包括组合的LED阵列芯片和驱动芯 片的LED头。LED阵列芯片包括LED的阵列,并且驱动芯片包括驱动 电路。

为了实现高分辨率,这种类型的图像形成装置采用包括半导体衬 底的LED头,在该半导体衬底上安装了多个LED阵列芯片和多个驱 动芯片。

为了减少将要安装的芯片的数目,提出了一种具有这样的结构的 半导体器件:其中半导体薄膜(其中预先形成LED元件)被接合到 其上形成了驱动电路的半导体衬底上。LED元件和驱动电路利用互连 图案电连接。例如在日本专利公开物No.2004-179641中公开了这 种半导体器件。

通过将多个半导体薄膜接合到形成在半导体晶片上的基底绝缘 层上并且通过切割该半导体晶片来制作这种类型的半导体器件。

然而,当如上所述在半导体器件的制作中切割半导体晶片时,切 割机可以在切断位置对基底绝缘层施加大的外力。因此,基底绝缘 层或层状膜(例如在切断位置附近形成在半导体衬底上的多层互连 等)的绝缘膜或金属膜可能从半导体衬底脱落并且可能破裂。此外, 根据基底绝缘层和在切断位置附近的层状膜中的任何一个的脱落, 存在半导体薄膜可能从基底绝缘层脱落的可能性。

发明内容

本发明的目的是提供能够防止基底绝缘层脱落的半导体器件,并 且提供利用该半导体器件的LED头和图像形成装置。

本发明提供利用切割半导体晶片制作的半导体器件。该半导体器 件包括衬底、形成在衬底上的基底绝缘层、形成在基底绝缘层上的 半导体元件、以及与基底绝缘层分开地形成在衬底的端部上的分离 图案部分。该分离图案部分防止在实施切割时基底绝缘层从衬底脱 落。

本发明还提供利用切割半导体晶片制作的半导体器件。该半导体 器件包括衬底、形成在衬底上的基底绝缘层、形成在基底绝缘层上 的半导体元件、以及将基底绝缘层的端部固定在衬底的端部的防脱 落图案部分。

根据下文给出的详细描述,本发明的另外的适用范围将变得显而 易见。然而,应当理解的是,仅借助图示给出了指示本发明的优选 实施例的详细描述和特定实例,因为对本领域技术人员而言根据该 详细描述在本发明的精神和范围内的多种变型和修改将变得明显。

附图说明

在附图中:

图1是示出根据本发明的实施例1的半导体器件的主要部分的平 面图;

图2是示出根据实施例1的半导体器件沿图1中示出的线II- II的截面图;

图3是示出根据实施例1的半导体器件的发光部分沿图1中示出 的线III-III的截面图;

图4是示出根据实施例1的半导体器件的半导体薄膜沿图1中示 出的线IV-IV的截面图;

图5是示出根据实施例1的半导体器件在切割过程中出现的破裂 的平面图;

图6A和6B是示出实施例1的第一修改及其变型的平面图;

图7是示出实施例1的第二修改的平面图;

图8是示出实施例1的第三修改的平面图;

图9是示出实施例1的第四修改的平面图;

图10是示出实施例1的第五修改的平面图;

图11是示出实施例1的第六修改的平面图;

图12是示出实施例1的第七修改的平面图;

图13是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第一修改的截 面图;

图14是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第二修改的截 面图;

图15是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第三修改的截 面图;

图16是示出实施例1的半导体器件的发光部分的第四修改的截 面图;

图17是示出实施例1的另一修改的平面图;

图18是示出根据本发明的实施例2的半导体器件的平面图;

图19是示出根据实施例2的半导体器件沿图18中示出的线XIX -XIX的截面图;

图20是示出根据实施例2的半导体器件在切割过程中出现的破 裂的平面图;

图21是示出实施例2的第一修改的平面图;

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