[发明专利]抗反射膜及其制作方法

权利要求书

1.一种抗反射膜，包含：

透明基板；

硬镀层，形成在所述透明基板上；以及

低折射率层，形成在所述硬镀层的上方，且所述低折射率层具有多个纳米粒子，其粒径介于10～500纳米之间。

2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述透明基板包含玻璃或高分子材质。

3.根据权利要求2所述的抗反射膜，其中所述高分子材质包含聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯或三醋酸纤维酯。

4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述低折射率层包含含氟硅烷化合物或含氟共聚物。

5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子包含有机或无机材质。

6.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子包含氧化硅、氧化铝、锑掺杂氧化锡、氧化锡、锑酸锌、五氧化锑、氧化铟锡或掺铝氧化锌。

7.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子包含聚甲基乙基酸甲酯、聚苯乙烯或苯代三聚氰胺。

8.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述纳米粒子的固体含量比介于10～95％之间。

9.根据权利要求1所述的抗反射膜，其表面粗糙度小于100纳米。

10.一种抗反射膜的制作方法，包括：

提供透明基板；

在所述透明基板上形成硬镀层；以及

在所述硬镀层的上方形成具有多个纳米粒子的低折射率层，其中所述纳米粒子的粒径介于10～500纳米之间。