[发明专利]抗反射膜及其制作方法无效
申请号: | 200710127227.2 | 申请日: | 2007-07-03 |
公开(公告)号: | CN101339258A | 公开(公告)日: | 2009-01-07 |
发明(设计)人: | 刘博滔 | 申请(专利权)人: | 达信科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;李丙林 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及抗反射膜,特别是涉及一种具有纳米粒子的抗反射膜及其制作方法。
背景技术
随着3C产品的快速发展及普及,抗反射膜从昂贵的产品转变为基本必需品。特别是需要通过窗口屏幕让眼睛接收讯息的产品,例如计算机、数字相机、移动电话、个人数字助理(PDA)、液晶电视或光学镜片等,更需要使用抗反射膜,以改善画面的视觉效果。
第1图显示了已知的抗反射膜的剖面图。如第1图所示,在透明基板10上形成硬镀层12后,接着在硬镀层12的上方形成低折射率层14。由于光线经由上述具有不同折射率的介质的抗反射膜时,会产生部分穿透部分反射的特性,且此反射光的波形会形成破坏性干涉,以达到抗反射的效果。一般来说,多层抗反射膜具有较好的抗反射效果。然而,层数越多不但会提高制作成本,而且也会造成层与层之间机械强度的问题,使得制作较为困难。
因此,亟需要一种新的抗反射膜及制作方法,以解决上述的问题,且更可-增加抗反射膜的穿透率及降低其反射率。
发明内容
有鉴于此,本发明的一目的是提供一种抗反射膜。上述抗反射膜,包含透明基板;硬镀层,形成在该透明基板上;以及低折射率层,形成在该硬镀层的上方,且该低折射率层具有多个纳米粒子,其粒径介于10~500纳米之间。
本发明的另一目的是提供一种抗反射膜的制作方法。上述抗反射膜的制作方法,包括提供透明基板;接着,在该透明基板上形成硬镀层;以及在该硬镀层的上方形成具有多个纳米粒子的低折射率层,其中这些纳米粒子的粒径介于10~500纳米之间。
本发明提供了一种抗反射膜,包含:透明基板;硬镀层,形成在所述透明基板上;以及低折射率层,形成在所述硬镀层的上方,且所述低折射率层具有多个纳米粒子,其粒径介于10~500纳米之间。
其中所述透明基板包含玻璃或高分子材质。其中所述高分子材质包含聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯或三醋酸纤维酯。
其中所述低折射率层包含含氟硅烷化合物或含氟共聚物。其中所述纳米粒子包含有机或无机材质。
其中所述纳米粒子包含氧化硅、氧化铝、锑掺杂氧化锡、氧化锡、锑酸锌、五氧化锑、氧化铟锡或掺铝氧化锌。
其中所述纳米粒子包含聚甲基乙基酸甲酯、聚苯乙烯或苯代三聚氰胺。
其中所述纳米粒子的固体含量比介于10~95%之间。
所述抗反射膜,其表面粗糙度小于100纳米。
其中所述硬镀层包含光启始剂、紫外光硬化型树脂单体及寡聚物。其中所述硬镀层还包含多个胶体型无机纳米粒子。其中所述胶体型无机纳米粒子包含二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化锌、氧化锗、氧化铟或氧化锡。
其中所述硬镀层还包含多个微米粒子。其中所述微米粒子包含氧化硅、氧化铝、丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚腈胺或聚碳酸树脂。
本发明还提供了一种抗反射膜的制作方法,包括:提供透明基板;在所述透明基板上形成硬镀层;以及在所述硬镀层的上方形成具有多个纳米粒子的低折射率层,其中所述纳米粒子的粒径介于10~500纳米之间。
其中低折射率层包含含氟硅烷化合物或含氟共聚物。
其中所述纳米粒子包含氧化硅、氧化铝、锑掺杂氧化锡、氧化锡、锑酸锌、五氧化锑、氧化铟锡或掺铝氧化锌。
其中所述纳米粒子包含聚甲基乙基酸甲酯、聚苯乙烯或苯代三聚氰胺。
其中硬镀层包含光启始剂、紫外光硬化型树脂单体、寡聚物及溶剂。其中所述硬镀层还包含多个胶体型的无机纳米粒子或多个微米粒子。
上述抗反射膜具有粒径介于10~500纳米之间的纳米粒子,不但可增加抗反射膜的穿透率(transmittance),而且也可以降低抗反射膜的反射率(reflectance)。再者,由于在不需要额外增加层数的前提下,也可达到降低抗反射膜的反射率的效果,因此,本发明的实施例的抗反射膜也兼具节省制作成本及制程简易的优点。
附图说明
第1图显示了已知的抗反射膜的剖面图;以及
第2A-2B图显示了根据本发明的实施例的制作抗反射膜的剖面图;
第3图显示了根据本发明的实施例的抗反射膜的剖面图。
具体实施方式
接下来,详细说明本发明优选实施例的制作及使用。然而,可以了解的是,本发明提供了许多可应用于各种不同的广泛领域的发明概念。因此,实施例仅是用来说明制作及使用本发明的具体实施方式,并不用以限制本发明。
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