[发明专利]利用压印来生产印刷电路板的方法无效

专利信息
申请号: 200710130508.3 申请日: 2007-07-09
公开(公告)号: CN101106868A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 赵在春;洪明镐;罗承铉;李赫洙;郭正福;李政祐;李春根;李上门 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H05K3/12 分类号: H05K3/12;H05K1/03
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李丙林
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 利用 压印 生产 印刷 电路板 方法
【说明书】:

相关申请的交叉参考

本申请要求于2006年7月10日向韩国知识产权局提交的韩国 专利申请第10-2006-0064575号的权益,其全部内容结合于此作为 参考。

技术领域

本发明涉及一种用于生产印电路板的方法。更具体地,涉及一 种用于生产印刷电路板的方法,其中利用压印将可聚合导电聚合物 的氧化剂选择性地标记在电路板上,然后将导电聚合物的单体填入 所选择的图样中并进行聚合,从而提供导电聚合物布线图样。

背景技术

过去,印刷电路板(PCB)是通过将铜箔压制在环氧树脂或酚 醛树脂(都是热固性/绝缘树脂)上,利用加热板压制而形成PCB 基板,或者通过将铜膜直接镀到树脂板上进行生产的。

然而,随着最近的朝向更薄和更多功能的电子产品的趋势,印 刷电路板也变得更小和集成化更高,具有更精细的图样,其中一种 最广泛用于生产微细结构的方法是光蚀刻法,其是将图样形成在涂 覆有光刻胶薄膜的电路板上的方法。这里,形成的图样的尺寸受光 光学衍射的限制。因此,光蚀刻法存在的问题是,随着各个部件的 集成程度增高,在光刻胶图样本身或者在图样之间的空间中由于光 的干涉可能会出现物理差异,以及在光刻胶和加工过程中产生的杂 质之间的反应也可能侵蚀光刻胶,使得形成的图样不同于所期望的 图样。此外,由于必须除去抗蚀剂(光刻胶),所以加工过程复杂。

与此同时,一种用于形成纳米级尺寸的精细布线的方法是采用 压印方法。这种方法首先在相对较坚固的材料表面上制成需要的形 状,然后将它像印章一样压印在另一种材料上而形成精细图样。在 传统的压印方法中,首先制成一个具有与所需形状的精细图形相对 应的图样的模板,然后通过在树脂绝缘层上进行压印而形成图样, 再将导电金属电镀到该图样的内部以形成精细图形。

与光刻胶图样形成方法相比,这种方法的优点在于可以易于实 现批量生产同时具有较低成本。然而,也存在着缺点,那就是很难 将利用传统印刷方法制造的印刷电路板应用于大面积的柔性部件。

发明内容

本发明的一方面提供一种用于通过压印来生产具有导电聚合 物布线的印刷电路板的方法。

本发明的一个方面提供一种用于生产印刷电路板的方法,该方 法包括:制备一个模板,其具有与待形成的布线图样一致的浮雕式 图形;将聚合性氧化剂涂覆在其上形成了布线图样的模板上;将该 模板压制在树脂层上;将模板与树脂层分开,以在树脂层中形成图 样,使得聚合性氧化剂被吸收在该图样之中;以及选择性地将导电 聚合物的单体填充到在树脂层中形成的图样内并进行聚合,从而形 成导电聚合物布线。

在一个实施方式中,模板可以用选择由半导体、陶瓷、金属、 聚合物、SiO2、石英、玻璃和它们的组合组成的组中的材料形成。

聚合性氧化剂可以是选自由中性质子供体(如H2O、HCl、HBr、 HNO3、H2SO4、羧酸、酚和醇)、阳离子(如Li+、Mg2+和Br+)和 金属化合物(如AlCl3、BF3、TiCl4、FeCl3和ZnCl2)组成的组中的 一种或几种。

这里,聚合性氧化剂的涂覆可以通过将模板浸入氧化剂溶液中 来实施。

树脂层可用树脂形成,其中该树脂是选自由热固性树脂(如环 氧树脂、酚醛树脂、乙烯基酯树脂、不饱和聚酯树脂、马来酰亚胺 树脂和乙烯基苯化合物)以及热塑性树脂(如聚醚酰亚胺、聚醚砜、 聚缩醛树脂和二环戊二烯基树脂)组成的组中的至少一种树脂。

根据本发明的一方面,用于制造印刷电路板的方法可以进一步 包括在填充导电聚合物的单体之前,对除了树脂层内形成的图样内 部之外的树脂层上表面的各部分进行表面处理。在一个实施方式 中,表面处理可以包括用极性溶剂清洗树脂层的上表面以除去聚合 性氧化剂,或者可以包括抛光树脂层的上表面以除去聚合性氧化 剂。

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