[发明专利]激励器及其制备方法、光学系统和图像形成装置有效
申请号: | 200710136078.6 | 申请日: | 2007-07-16 |
公开(公告)号: | CN101109844A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 南条健;加藤静一;大高刚一 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;H01L41/08 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激励 及其 制备 方法 光学系统 图像 形成 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种激励器,其用作光偏转器,包括在基底上运转的片状部件, 例如反射镜,并且为运转的片状部件提供预定功能,涉及一种生产激励器的方 法、使用该激励器的光学系统和图像形成装置。
背景技术
已经提出了各种光偏转方法、光偏转装置和制造光偏转装置的方法。例如, 申请号为No.2004-78136的日本特开专利申请(后文中称为“参考文献1”) 公开了一种光偏转装置,其中没有固定端的片状部件(例如反射镜)被限制在 空间中,并且通过静电引力以支撑部件为中心倾斜,以在一个轴向或两个轴向 偏转入射光。
在参考文献1中公开的其他光偏转装置中,接触电压施加于片状部件(例 如反射镜),或者该片状部件电悬浮(由静电力支撑)。参考文献1还相应地公 开了光偏转装置的光偏转方法,即用于驱动各自的光偏转装置的方法。
下面将简要描述参考文献1中公开的光偏转装置的典型结构及其典型驱 动方法。
图16A到图16D为示出参考文献1中的光偏转装置结构的平面视图和剖 视图。
具体地,图16A为光偏转装置的平面视图,图16B是沿图16A中AA’线 看的剖视图,图16C是沿图16A中BB’线看的剖视图;图16D是沿图16A中 CC’线看的剖视图。需要注意的是,图16A到图16D中所示的光偏转装置对 应于包括多个激励器的二维光偏转阵列中的一个激励器。
如图16A到16D中所示,光偏转装置包括基底101,多个调节部件102, 支撑部件103,片状部件104和多个电极105a,105b,105c和105d。
调节部件102分别布置在基底101的角部,并且每一个调节部件102在其 顶部具有止动部。
支撑部件103布置在基底101的表面上,具有由导电材料形成的顶部。
片状部件104不具有固定端,即片状部件104没有固定。在片状部件104 的上部具有光反射区和由具有至少一个导电部的部件形成的导电层。在片状部 件104的底部,与支撑部件103的顶部接触的至少一个接触部分由导电部件形 成。片状部件104可移动地布置在由基底101、支撑部件103和调节部件102 的止动部围绕的空间内。片状部件104上的电压通过与支撑部件103的接触来 提供。
电极105a,105b,105c和105d布置在基底101上,并且基本与片状部件 104的导电层相对。
在上面的光偏转装置中,如图16C和图16D中所示,由于施加在电极105a, 105b,105c和105d上和支撑部件103上的电压组合,片状部件104在四个方 向中倾斜。这四个方向在图16C和图16D中分别用“方向1”,“方向2”,“方 向3”和“方向4”表示。因此,例如,当光束以垂直于基底101的表面的方 向入射时,片状部件104在四个方向中反射入射光束。相反,当四个光束分别 以四个方向入射时,片状部件104以垂直于基底101的表面方向反射入射光束。
图17是示出施加在电极105a,105b,105c和105d上的电压组合和片状 部件104在图16A到图16D中的光偏转装置中的倾斜方向之间的关系的表格。
如图17中所示,将两种电压,具体为X伏电压和0伏电压,适当地施加 在四个电极105a,105b,105c和105d及支撑部件103上。由于该所施加电压 的组合,片状部件104能够将入射光束在四个方向反射。
参考文献1中公开的光偏转装置具有下述优点。
由于片状部件104的倾斜度由基底101、支撑部件103和片状部件104(例 如反射镜)之间的接触确定,因此很容易稳定地控制反射镜的偏转角。
由于施加在以支撑部件103为中心的相对电极上的不同电压,薄片状部件 104可以高速旋转,以使光偏转装置具有高的反应速度。而且,由于片状部件 104没有固定端,则在片状部件104中不会出现扭曲变形或其他变形,并且几 乎没有片状部件104的长期老化;因此片状部件104可在低电压下驱动。
由于微小和重量轻的片状部件104可由半导体工艺制作,几乎没有由于调 节部件102的止动部和片状部件104之间的碰撞引起的振动;因而几乎没有片 状部件104的长期老化。
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