[发明专利]用于磁盘的玻璃基板及其制造方法,以及磁盘无效

专利信息
申请号: 200710137931.6 申请日: 2007-07-17
公开(公告)号: CN101108467A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 臼井寛;宮原修;宮谷克明;金喜則;吉田伊織 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B7/24;C09G1/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 磁盘 玻璃 及其 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种通过抛光圆形玻璃板,制造用于磁盘的玻璃基板的方法,该方法包括使用浆料抛光所述圆形玻璃板的主表面的步骤,所述浆料包含至少一种水溶性聚合物和胶态二氧化硅,所述至少一种水溶性聚合物选自:包含氨基的水溶性有机聚合物、包含胺盐基团的水溶性有机聚合物和包含季铵盐基团的水溶性有机聚合物。

2.如权利要求1所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆料包含水溶性聚醚多胺。

3.如权利要求1或2所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆料包含水溶性聚亚烷基多胺。

4.如权利要求1、2或3所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆料包含环氧乙烷加成类季铵盐或二季铵盐。

5.如权利要求1-4中任一项所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆料中水溶性聚合物的含量为0.001-10质量%。

6.如权利要求1-5中任一项所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆料的pH值为8-12。

7.一种用于磁盘的玻璃基板,用原子力显微镜测得,主表面的算术平均糙度最多为0.16纳米,在所述主表面外周部分的下降度最多为50纳米。

8.如权利要求7所述的用于磁盘的玻璃基板,其特征在于,所述算术平均糙度最多为0.13纳米。

9.如权利要求7或8所述的用于磁盘的玻璃基板,其特征在于,在所述主表面外周部分的下降度最多为20纳米。

10.一种磁盘,其包括:通过如权利要求1-6中任一项所述的制造用于磁盘的玻璃基板的方法制造的用于磁盘的玻璃基板,或者如权利要求7-9中任一项所述的用于磁盘的玻璃基板,还包括层叠在所述玻璃基板上的多个层,这些层中包括用作记录层的磁层。

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