[发明专利]电光装置用基板及电光装置以及电子设备有效
申请号: | 200710139022.6 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN101115333A | 公开(公告)日: | 2008-01-30 |
发明(设计)人: | 石井达也 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H05B33/14 | 分类号: | H05B33/14;H05B33/26;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 装置 用基板 以及 电子设备 | ||
1.一种电光装置用基板,其特征在于,具备:
基板;
多条数据线及多条扫描线,其在前述基板上互相交叉;
像素电极,其与前述多条数据线及前述多条扫描线的交叉处对应,且分别形成于构成前述基板上的显示区域的多个像素;
晶体管,其设置于互相隔开前述多个像素的各自的开口区域的非开口区域,包括具有以下区域的半导体层:具有沿前述显示区域中的一个方向的沟道长的沟道区域,电连接于前述数据线的数据线侧源漏区域,电连接于前述像素电极的像素电极侧源漏区域,形成于前述沟道区域及前述数据线侧源漏区域间的第1结区域,和形成于前述沟道区域及前述像素电极侧源漏区域间的第2结区域;和
遮光部,其形成于与前述半导体层相比的上层侧,具有沿前述一个方向延伸并覆盖前述第1结区域的第1部分,和覆盖前述第2结区域的第2部分,与前述第1部分相比,该第2部分在相交于前述一个方向的另一个方向上的宽度宽。
2.按照权利要求1所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述第2结区域,为LDD区域。
3.按照权利要求1或2所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述遮光部,配置于前述晶体管的正上方。
4.按照权利要求1~3中的任何一项所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述遮光部,是具有一对电容电极及夹持于该一对电容电极间的电介质膜的电容元件;
前述电容元件,在通过前述数据线向前述像素电极供给了图像信号时,对前述像素电极的电位进行保持。
5.按照权利要求4所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述一对电容电极的至少一方,包括导电性遮光膜。
6.一种电光装置用基板,其特征在于,具备:
基板;
多条数据线及多条扫描线,其在前述基板上互相交叉;
像素电极,其与前述多条数据线及前述多条扫描线的交叉处对应,且分别形成于构成前述基板上的显示区域的多个像素;
晶体管,其具有(i)半导体层,该半导体层具有在互相隔开前述多个像素的各自的开口区域的非开口区域之中沿前述显示区域内的第1方向延伸的第1区域中具有沿前述第1方向的沟道长的沟道区域、电连接于前述数据线的数据线侧源漏区域、电连接于前述像素电极的像素电极侧源漏区域、形成于前述沟道区域及前述数据线侧源漏区域间的第1结区域,和形成于前述沟道区域及前述像素电极侧源漏区域间的第2结区域,以及(ii)栅电极,该栅电极在前述非开口区域之中的沿相交于前述第1方向的第2方向延伸的第2区域与前述第1区域相互交叉的交叉区域中,与前述沟道区域重叠;和
遮光部,其形成于与前述半导体层相比的上层侧,具有分别沿前述第1方向及前述第2方向延伸的第1部分及第2部分,以及在前述交叉区域中前述第1部分及前述第2部分相互交叉的交叉部,
前述第2结区域的至少一部分,在前述交叉区域中与前述交叉部重叠。
7.按照权利要求6所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述第2结区域,为LDD区域。
8.按照权利要求6或7所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述栅电极,具有在前述第2区域中沿前述第2方向延伸的主线部;和在前述第1区域中,从前述主线部沿前述第1方向向前述第1结区域之侧突出的凸部。
9.按照权利要求8所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述栅电极,具有部分切去前述主线部的凹部以使得在前述交叉区域中前述主线部不重叠于前述第2结区域。
10.按照权利要求6~9中的任何一项所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述遮光部,配置于前述晶体管的正上方。
11.按照权利要求6~10中的任何一项所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述遮光部,是具有一对电容电极及夹持于前述一对电容电极间的电介质膜的电容元件;
前述电容元件,在通过前述数据线向前述像素电极供给了图像信号时,对前述像素电极的电位进行保持。
12.按照权利要求11所述的电光装置用基板,其特征在于:
前述一对电容电极分别由金属膜所形成。
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