[发明专利]发光装置有效
| 申请号： | 200710140964.6 | 申请日： | 2007-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101140975A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 岸川大介;德田启祐;西内直纪 | 申请（专利权）人： | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L23/13 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种发光装置，其具有第一金属构件、载置在该第一金属构件的一端的发光元件、和至少被覆所述发光元件的透光性被覆材，其特征在于，
在所述第一金属构件的表面具有确定所述透光性被覆材的形成区域的凹坑，
所述凹坑的内壁连续。
2.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，
第一金属构件在一端具有凹部，发光元件收容在所述凹部内，透光性被覆材从第一金属构件的凹部内遍及表面而配置。
3.如权利要求1或2所述的发光装置，其特征在于，
在俯视下，第一金属构件的一端的形状与邻接的凹部的形状类似，凹坑沿邻接的凹部配置。
4.如权利要求3所述的发光装置，其特征在于，
凹坑沿邻接的凹部配置多个。
5.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，
透光性被覆材含有荧光物质。
6.如权利要求1所述的发光装置，其特征在于，
第一金属构件在隔着凹坑与发光元件对置的位置载置有保护元件。
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