[发明专利]清洁系统无效
申请号: | 200710141151.9 | 申请日: | 2007-08-08 |
公开(公告)号: | CN101269376A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 胡天镇;谢志明;赖建彰;李文景;陈达享 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | B08B11/00 | 分类号: | B08B11/00;B08B11/02;B08B1/02 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘培坤 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 系统 | ||
1. 一种清洁系统,适用于清洁一晶片,包括:
一第一滚轮座;
至少一第一夹持滚轮,连接于该第一滚轮座,并且具有一第一环形凹槽;
一第二滚轮座,与该第一滚轮座相对;
至少一第二夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第二环形凹槽;
一感测夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第三环形凹槽,其中,该第三环形凹槽对应于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽;以及
一清洁组件,包覆该第三环形凹槽,其中,该晶片的周缘定位于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽之中,并且抵接于该清洁组件,所述第一夹持滚轮及所述第二夹持滚轮驱使该晶片转动,以使该晶片的周缘摩擦该清洁组件。
2. 如权利要求1所述的清洁系统,其中,该感测夹持滚轮的中心轴以一特定角度倾斜于所述第二夹持滚轮的中心轴。
3. 如权利要求2所述的清洁系统,其中,该特定角度介于-45度与45度之间。
4. 一种清洁系统,适用于清洁一晶片,包括:
一第一滚轮座;
至少一第一夹持滚轮,连接于该第一滚轮座,并且具有一第一环形凹槽;
一第二滚轮座,与该第一滚轮座相对;
至少一第二夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第二环形凹槽;
一感测夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第三环形凹槽,其中,该第三环形凹槽对应于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽;以及
一清洁柱,连接于该第二滚轮座,并且具有一清洁组件,其中,该清洁组件的位置对应于所述第一环形凹槽的位置、所述第二环形凹槽的位置及该第三环形凹槽的位置,该晶片的周缘定位于所述第一环形凹槽、所述第二环形凹槽及该第三环形凹槽之中,并且抵接于该清洁组件,所述第一夹持滚轮及所述第二夹持滚轮驱使该晶片转动,以使该晶片的周缘摩擦该清洁组件。
5. 如权利要求4所述的清洁系统,其中,该清洁柱的中心轴以一特定角度倾斜于所述第二夹持滚轮的中心轴及该感测夹持滚轮的中心轴。
6. 如权利要求5所述的清洁系统,其中,该特定角度介于-45度与45度之间。
7. 一种清洁系统,适用于清洁一晶片,包括:
一第一滚轮座;
至少一第一夹持滚轮,连接于该第一滚轮座,并且具有一第一环形凹槽;
一第二滚轮座,与该第一滚轮座相对;
至少一第二夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第二环形凹槽,其中,所述第二夹持滚轮的转速与所述第一夹持滚轮的转速相同;
一第三夹持滚轮,连接于该第二滚轮座,并且具有一第三环形凹槽,其中,该第三环形凹槽对应于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽,该第三夹持滚轮的转速不同于所述第一夹持滚轮的转速及所述第二夹持滚轮的转速;以及
一清洁组件,包覆该第三环形凹槽,其中,该晶片的周缘定位于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽之中,并且抵接于该清洁组件,所述第一夹持滚轮及所述第二夹持滚轮驱使该晶片转动,以使该晶片的周缘摩擦该清洁组件。
8. 如权利要求7所述的清洁系统,其中,该第三夹持滚轮的转速大于该第一夹持滚轮的转速及所述第二夹持滚轮的转速。
9. 如权利要求7所述的清洁系统,还包括一驱动马达及一变速箱,其中,该变速箱连接于该第二滚轮座,并且具有一第一皮带轮、至少一第二皮带轮及至少一传动皮带,该驱动马达连接于该第一皮带轮,用以驱使该第一皮带轮转动,该第一皮带轮连接于该第三夹持滚轮,所述第二皮带轮连接于所述第二夹持滚轮,所述传动皮带连接于该第一皮带轮与所述第二皮带轮之间,该第一皮带轮的直径不同于所述第二皮带轮的直径。
10. 如权利要求8所述的清洁系统,还包括一驱动马达及一变速箱,其中,该变速箱连接于该第二滚轮座,并且具有一第一皮带轮、至少一第二皮带轮及至少一传动皮带,该驱动马达连接于该第一皮带轮,用以驱使该第一皮带轮转动,该第一皮带轮连接于该第三夹持滚轮,所述第二皮带轮连接于所述第二夹持滚轮,所述传动皮带连接于该第一皮带轮与所述第二皮带轮之间,该第一皮带轮的直径小于所述第二皮带轮的直径。
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