[发明专利]图案形成用基材、负型抗蚀剂组合物及图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成用基材，其特征在于，所述基材是多核酚化合物的混合物，所述多核酚化合物每1分子中具有0个以上6个以下官能团，所述官能团通过酸的作用可被化学转化，从而使相对于碱性显影液的溶解性降低，

所述多核酚化合物具有下述化学式(1)所示的结构，所述官能团与所述多核酚化合物的酚羟基键合，在所述官能团以外的部分2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接，

所述混合物由多核酚化合物构成，所述多核酚化合物中，每1分子中具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子中具有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，且与构成所述混合物的多核酚化合物键合的所述官能团的数量平均为每1分子2.5个以下，

···式(1)

式(1)中，Y为氢原子、或是通过酸的作用被化学转化从而使相对于碱性显影液的溶解性降低的官能团，R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇、R₁₈、R₁₉、R₂₀、R₂₁、R₂₂、R₂₃、R₂₄、R₂₅、R₂₆、R₂₇、R₂₈分别为选自氢原子、碳原子数1至10的烷基或芳香族烃基中的基团，A表示连接多个三苯基甲烷结构的非共轭结构，是选自碳原子数为1～10的直链或支链烷基、或脂环族烷基中的基团。

2.如权利要求1所述的图案形成用基材，其特征在于，所述官能团是可由极性变为非极性的官能团，极性基团是γ-或δ-羟基羧酸，非极性基团是通过极性基团分子内酯化生成的γ-或δ-内酯。

3.如权利要求2所述的图案形成用基材，其特征在于，与所述多核酚化合物的酚羟基的一部分键合的官能团，为下述化学式(2)或(3)所示的结构，

···式(2)

···式(3)

式(2)及(3)中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈表示氢或碳原子数1至10的烷基，另外，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈中的任一个以醚键与多核酚的羟基键合。

4.如权利要求1所述的图案形成用基材，其特征在于，所述多核酚化合物在官能团键合的酚羟基的邻位具有碳原子数1至10的直链或环状烷基，所述官能团是通过所述酸的作用可被化学转化从而使相对于碱性显影液的溶解性降低的官能团。

5.如权利要求1所述的图案形成用基材，其特征在于，所述多核酚化合物是下述化学式(4)表示的化合物，

···式(4)

式(4)中Y₁～Y₆表示氢原子、或通过所述酸的作用可被化学转化从而使相对于碱性显影液的溶解性降低的官能团。

6.一种负型抗蚀剂组合物，其特征在于，含有通过放射线照射生成酸的酸发生剂成分，含有权利要求1所述的图案形成用基材的成分。

7.一种图案形成方法，其特征在于，包括如下工序：

通过在基体上涂布权利要求6所述的负型抗蚀剂组合物，得到抗蚀剂层的工序，

向所述抗蚀剂层照射放射线的工序，

对所述照射了放射线的抗蚀剂层实施显影处理的工序。