[发明专利]用于缺陷检测的方法及系统

说明书

相关申请

本申请要求2006年7月31日提交的美国临时专利序列号60/820,924的优先权。

技术领域

本发明一般涉及诸如半导体晶圆、印刷电路板和分划板(reticle)(也称为掩模)的图案化物体的自动光学检测技术领域。

背景技术

现代微电子器件普遍使用光刻工艺制造。在该工艺中，首先在半导体晶圆上涂覆一层光刻胶。随后使用掩模将该光刻胶层暴露于照射光，并随后显影。在显影之后，去除未曝光的光刻胶，并且已曝光的光刻胶在晶圆上产生掩模的图像。此后，对晶圆的最上层进行蚀刻。随后，剥离残留的光刻胶。对于多层晶圆，则重复以上步骤以产生随后的构图层。

使用以上光刻胶工艺生产的微电子电路中元件数量的日益增加要求在光刻胶曝光中使用非常高分辨率的图像。

本领域的技术人员应该理解，为了生产可运行的微电子电路，掩模必须尽可能无缺陷，优选为完全无缺陷。所以，需要掩模检测工具以检测掩模中可潜在减少微电子电路产量的各种缺陷。

特定类型的掩模缺陷(诸如附加图案、遗漏图案或颗粒)可通过各种检测方法来检测。公知的缺陷检测方法已知为模具与模具(die to die)的比较。模具与模具的比较包括将一模具的图像与另一模具的图像进行比较。模具与模具的比较在单个模具掩模或掩模的非模具区域中并不有效。

因此，需要提供用于缺陷检测并且特别是掩模的缺陷检测的系统和方法。

发明内容

本发明提供了一种用于缺陷检测的方法、系统及计算机可读介质。优选地，选择一个或多个“测试”像素并且随后找到一个或多个相应的“参考”像素。为了找到可能的缺陷，将一个或多个“测试”像素与一个或多个“参考”像素进行比较。测试像素与“参考”像素的失配可表示存在缺陷。

本发明提供了一种方法。该方法包括：选择目标的第一图像的测试像素；检索与测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索第二图像的第三像素，从而使得第二像素的邻域(neighborhood)与第三像素的邻域相类似；检索与第三像素相对应的第一图像的第四像素；以及将测试像素与第四像素进行比较。

本发明提供一种具有其中包含用于缺陷检测的计算机可读代码的计算机可读介质，该计算机可读代码包括以下指令：选择目标的第一图像的测试像素；检索与测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索第二图像的第三像素，从而使得第二像素的邻域与第三像素的邻域相类似；检索与第三像素相对应的第一图像的第四像素；以及将测试像素与第四像素进行比较。

本发明提供了一种用于缺陷检测的系统，该系统包括：存储器单元，其适于存储表示目标的第一图像和目标的第二图像中像素的邻域的信息；以及处理器，其与存储器单元连接，该处理器适于：选择目标的第一图像的测试像素；检索与测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索第二图像的第三像素，从而使得第二像素的邻域与第三像素的邻域相类似；检索与第三像素相对应的第一图像的第四像素；以及将测试像素与第四像素进行比较。

本发明提供了一种方法，该方法包括：检索与目标的第一图像的测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索目标的多个图像中的第三像素，从而使得第二像素的邻域与第三像素的邻域相类似；检索与第三像素相对应的第一图像的第四像素；以及将测试像素与第四像素进行比较。

本发明提供了一种用于缺陷检测的方法，该方法包括：检索与目标的第一图像的第一特征相对应的第二图像的特征；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索第二图像的第三特征，从而使得第二特征的邻域与第三特征的邻域相类似；检索与第三特征相对应的第一图像的第四特征；以及将第一特征与第四特征进行比较。

本发明提供了一种用于缺陷检测的方法，该方法包括：检索与目标的第一图像的测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；搜索第二黄金图像的黄金匹配像素(golden matching pixel)，从而使得第二黄金匹配像素的邻域与第三像素的邻域相类似；检索与黄金匹配像素相对应的第一黄金图像的相应黄金像素；以及将测试像素与相应的黄金像素进行比较。

优选地，该方法包括搜索具有与第二像素的邻域匹配的邻域的第二图像的多个像素。

优选地，该方法包括重复搜索多个测试像素并且生成表示搜索过程中所找到的像素数量的统计数据。