[发明专利]影像显示系统的制造方法无效
申请号: | 200710143468.6 | 申请日: | 2007-08-01 |
公开(公告)号: | CN101118875A | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 许国斌;刘俊彦;石一汎;曾章和;张世昌 | 申请(专利权)人: | 统宝光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/768 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 许向华;彭久云 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 显示 系统 制造 方法 | ||
1.一种影像显示系统的制造方法,其中该影像显示系统包含一电激发光装置,包括以下的步骤:
提供一具有有源区及衬垫区的基板;
形成一薄膜晶体管于该基板的有源区上,及形成一衬垫电极于该基板的该衬垫区内,其中该薄膜晶体管包含一源极、一栅极、一漏极及一栅极绝缘层;
形成一保护层于该有源区及衬垫区之上;
形成一彩色滤光片层于该保护层之上并位于有源区之内,其中一第一接触窗形成于该漏极的正上方,并贯穿该彩色滤光片层,露出该保护层;
形成一平坦层于该基板的有源区及衬垫区之上;
形成一第二接触窗贯穿该位于有源区的平坦层,以露出该位于漏极正上方的保护层的上表面;
形成一第三接触窗贯穿该位于衬垫区的平坦层,以露出该位于衬垫电极正上方的保护层的上表面;
形成一漏极接触窗贯穿位于有源区的该保护层以露出该漏极,其中在完成该彩色滤光片层及平坦层之后形成该漏极接触窗;以及
形成一衬垫接触窗贯穿该保护层以露出该衬垫电极,其中在完成该平坦层之后形成该衬垫接触窗。
2.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,更包含:
形成一有机发光二极管于该有源区,其中该有机发光二极管包含一阴极,该阴极经由该第二接触窗及该漏极接触窗与漏极电连接。
3.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该第二接触窗的尺寸大于该漏极接触窗的尺寸,且该第二接触窗露出位于该漏极接触窗内的该保护层的上表面。
4.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该第三接触窗的尺寸大于该衬垫接触窗的尺寸,且该第三接触窗露出位于该衬垫接触窗内的该保护层的上表面。
5.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该漏极接触窗位于该第一接触窗的下方。
6.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该衬垫接触窗位于该第三接触窗的下方。
7.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该第二接触窗及该第三接触窗经由相同的步骤所形成。
8.如权利要求1所述的影像显示系统的制造方法,其中该漏极接触窗及该衬垫接触窗经由相同的步骤所形成。
9.一种影像显示系统的制造方法,包括:
提供一具有薄膜晶体管的基板,其中该薄膜晶体管包含一源极、一栅极、一漏极、以及一栅极;
依序形成一保护层、一彩色滤光片层、及一平坦层于该基板之上,其中一第一接触窗形成于该漏极之上,并贯穿该彩色滤光片层;
形成一第二接触窗贯穿该平坦层以露出位于该漏极正上方的保护层的上表面;
形成一漏极接触窗贯穿该保护层,其中在完成该彩色滤光片层及平坦层之后形成该漏极接触窗。
10.一种影像显示系统的制造方法,包括:
提供一具有衬垫电极的基板;
依序形成一保护层及一平坦层以覆盖该衬垫电极;
形成一接触窗贯穿该平坦层,以露出位于该衬垫电极正上方的保护层的上表面;以及
形成一贯穿该保护层的衬垫接触窗,其中在完成该平坦层之后形成该衬垫接触窗。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造