[发明专利]含氮有机硅化合物、其制备方法和处理表面的方法无效
申请号: | 200710143745.3 | 申请日: | 2004-03-30 |
公开(公告)号: | CN101108862A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 岩井亮;滨田光祥 | 申请(专利权)人: | 陶氏康宁东丽株式会社 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;C08K5/54 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张钦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机硅 化合物 制备 方法 处理 表面 | ||
1.下式所示的含氮有机硅化合物:
其中,R9是含有1-4个氮原子、3-17个碳原子、0-2个氧原子和4-34个氢原子的脂环氨基或杂环氨基;R3是具有1-15个碳原子的二价烃基或是式-CnH2nO-所示的亚烷氧基,其中n是1-15;R4是具有1-15个碳原子的二价烃基;R5是具有1-15个碳原子的一价烃基;R6是具有1-15个碳原子的一价烃基或烷氧基烷基;R7是烷基或氢原子;R8是氢原子、具有1-20个碳原子的烷基,或芳基;m是0或1;x是0-2;并且y是1-5。
2.一种制备含氮有机硅化合物的方法,包括使
下式所示的化合物:
与下式所示的化合物:
之间进行加成反应,
其中,R9是含有1-4个氮原子、3-17个碳原子、0-2个氧原子和4-34个氢原子的脂环氨基或杂环氨基;R3是具有1-15个碳原子的二价烃基或是式-CnH2nO-所示的亚烷氧基,其中n是1-15;R4是具有1-15个碳原子的二价烃基;R5是具有1-15个碳原子的一价烃基;R6是具有1-15个碳原子的一价烃基或烷氧基烷基;R7是烷基或氢原子;R8是氢原子、具有1-20个碳原子的烷基,或芳基;m是0或1;x是0-2;且y是1-5。
3.根据权利要求2制备权利要求1所定义的含氮有机硅化合物的方法。
4.一种处理表面的方法,包括将权利要求1的含氮有机硅化合物施涂在所述表面上。
5.一种处理表面的方法,包括将含有权利要求1的含氮有机硅化合物的溶液施涂在所述表面上。
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