[发明专利]光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂用溶剂，为可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中所用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为在20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。

2.权利要求1所述的光致抗蚀剂用溶剂，其中上述低粘度溶剂其结构中含有羰基、羧酸酯基、碳酸酯基、氰基、或醚键、或芳香族单元、或它们的组合。

3.权利要求1或2所述的光致抗蚀剂用溶剂，其中上述低粘度溶剂的闪点超过21℃，和/或在760托的压力下沸点为110～210℃。

4.权利要求1～3任一项所述的光致抗蚀剂用溶剂，其中上述低粘度溶剂不具有毒性。

5.权利要求1～4任一项所述的光致抗蚀剂用溶剂，其中进一步包含丙二醇单甲醚乙酸酯。

6.一种狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有权利要求1～5任一项所述的光致抗蚀剂用溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质而构成。

7.权利要求6所述的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物，其用于制造平板显示器。