[发明专利]光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物有效
申请号: | 200710146009.3 | 申请日: | 2007-09-03 |
公开(公告)号: | CN101144979A | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | 拉尔夫·格罗滕穆勒;沃尔夫冈·察恩;高桥修一 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料(日本)株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂用 溶剂 以及 采用 狭缝 敷用 光致抗蚀剂 组合 | ||
技术领域
本发明涉及光致抗蚀剂组合物中所用的溶剂。本发明特别是涉及适用于通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物中适用的溶剂。
背景技术
在例如平板显示器(以下也称为“FPD”)的制造过程中,要将光敏性组合物涂敷于玻璃基板上。在该过程中,以前,对于小尺寸玻璃基板的涂覆,采用的是旋涂法。但是,该旋涂法不适合用于涂敷大尺寸的基板。因此,作为其替代方法,有的采用狭缝涂敷法或缝模涂敷法。这些方法的特征是,由在基板表面上移动的喷嘴供给所需量的抗蚀剂组合物形成覆膜。另外,也有根据需要将喷嘴固定,而使玻璃基板移动的情况。如此涂敷的基板,继续进行干燥和固化,除去组合物中的溶剂,再进一步进行加工处理。随着基板的大型化,为了进一步提高生产力和降低成本,需要更高速的制造方法。即,需要进一步提高基板上移动喷嘴的速度,以缩短涂敷所需的时间。
另一方面,对于能够进行这种高速涂敷的涂敷液,需要有特别的性能,特别是在涂敷过程中不发生覆膜脱落以及不产生涂敷不均是很重要的。通常,近来的狭缝涂敷的涂敷速度最高能达到200mm/s的水平。为提高制品的生产力,提高该涂敷速度是非常有效的,而对于提高这种涂敷速度上限来说,涂敷液的粘度是很重要的参数。推测通过降低涂敷液的粘度可以提高涂敷速度。众所周知的是,光致抗蚀剂组合物的粘度取决于固体成分含量。光致抗蚀剂组合物的固体成分大部分是高分子量聚合物,例如酚醛清漆树脂,随着其含量的增高,粘度也增大。因此,通过降低固体成分含量,即增大溶剂含量,可以降低粘度。但是,若降低固体成分含量,即增大溶剂含量,则在干燥工序中必须除去大量的溶剂,因此不是优选的。另外,还考虑到若提高稀释度来降低粘度,将损害光致抗蚀剂组合物的保存期限。并且,还认为随着溶剂含量的增多,干燥后覆膜的均匀性也会受到损害。
并且,在光致抗蚀剂领域,对各种涂敷组合物进行了研究,并且也研究了使用各种溶剂作为其成分。在这些研究中,提出了使用粘度低的溶剂的示例(专利文献1~3)。但是,由于这些研究不是着眼于溶剂的粘度,因而没有将溶剂根据粘度进行区分。并且,这些技术意图通过旋涂法进行涂敷,对于哪些溶剂适用于狭缝涂敷、为了顺利进行狭缝涂敷的高速涂敷应该选择哪些溶剂,没有给出任何暗示。
【专利文献1】日本特开平9-211845号公报
【专利文献2】日本特开平10-221841号公报
【专利文献3】日本特开2001-117221号公报
发明内容
本发明目的是提供不降低固体成分含量、能够进行狭缝涂敷的高速涂敷的光致抗蚀剂用溶剂以及能够通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。
本发明的光致抗蚀剂用溶剂是可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物所用的溶剂,其特征在于,基于该溶剂的重量,10重量%以上为20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。
另外,本发明的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物特征在于含有上述光致抗蚀剂用溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质而构成。
通过使用本发明的光致抗蚀剂用溶剂,可以获得能够通过狭缝涂敷,在不发生膜脱落的情况下进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。另外,通过使用本发明的光致抗蚀剂用溶剂,能够进行固体成分含量高的光致抗蚀剂组合物的涂敷,能够省略部分溶剂除去工序,实现降低成本,并且,能够提高涂敷膜厚的均匀性,实现改善图案的形状。
附图说明
图1:显示采用丙二醇单甲醚乙酸酯与乙酰丙酮混合溶剂的光致抗蚀剂组合物的粘度变化的曲线图。
具体实施方式
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