[发明专利]功率系统抑制方法及其装置和结构有效
申请号: | 200710148179.5 | 申请日: | 2004-09-10 |
公开(公告)号: | CN101106130A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | 约瑟夫·哈拉米克;杰斐逊·W·哈尔 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/085 | 分类号: | H01L27/085;H01L27/088;H01L27/098 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 系统 抑制 方法 及其 装置 结构 | ||
1.一种高电压多输出电流装置,包括:
第一导电类型的衬底;
在衬底的第一部分上的第二导电类型的第一区域,第一区域具有 一形状和第一周边,其中第一周边的第一部分具有第一轮廓而第一周 边的第二部分具有第二轮廓,并且,第一区域为J-FET晶体管的漏极 和源极、第一MOS晶体管的漏极、以及第二MOS晶体管的漏极;
在衬底上的第二导电类型的第二掺杂区域,它具有第二周边,其 中第二周边的一部分与第一周边的第一部分并列,并具有与第一轮廓 相同形状的第三轮廓,其中第二掺杂区域为第一MOS晶体管的源极; 以及
在衬底上的第二导电类型的第三掺杂区域,它具有第三周边,其 中第三周边的一部分与第一周边的第二部分并列,并具有与第二轮廓 相同形状的第四轮廓,其中第三掺杂区域为第二MOS晶体管的源极。
2.根据权利要求1的高电压多输出电流装置,进一步包括第一 栅极结构,第一栅极结构覆盖在第一周边和第二周边的第一部分的一 部分上,还包括第二栅极结构,第二栅极结构覆盖在第一周边和第三 周边的第二部分的一部分上。
3.根据权利要求1的高电压多输出电流装置,进一步包括位于 第一区域内的第二导电类型的第四区域,第四区域具有比第一区域更 重的掺杂。
4.根据权利要求1的高电压多输出电流装置,其中第一区域的 形状为圆形、椭圆形、方形、矩形、五边形、或六边形中之一,并且 其中第一周边的第一部分距第一区域的形状的中心第一距离。
5.根据权利要求4的高电压多输出电流装置,其中第二区域的 周边的部分距第一区域的形状的中心第二距离,并且其中第三区域的 周边的部分距第一区域的形状的中心第三距离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的