[发明专利]TEG图案及利用TEG图案的半导体器件的测试方法无效

专利信息
申请号: 200710148571.X 申请日: 2007-08-29
公开(公告)号: CN101211894A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 洪志镐 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/66
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 郑小军
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: teg 图案 利用 半导体器件 测试 方法
【权利要求书】:

1.一种测试元件组TEG图案,包括:

器件隔离层图案,其在相邻的有源区之间具有预定间隙;

位于所述器件隔离层图案中的有源区图案;以及

位于所述有源区图案中的接触件图案。

2.根据权利要求1所述的TEG图案,其中所述器件隔离层图案和所述接触件图案具有大于最小设计规则值的尺寸。

3.根据权利要求2所述的TEG图案,还包括:具有等于最小设计规则值的尺寸的第二器件隔离层图案和第二接触件图案。

4.根据权利要求2所述的TEG图案,其被配置为根据所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸的差值监控漏电流。

5.根据权利要求4所述的TEG图案,其中所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸差值为200nm或更小。

6.根据权利要求3所述的TEG图案,包括多个器件隔离层图案和多个接触件图案,其中所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸差值在小于等于200nm的范围内改变。

7.根据权利要求1所述的TEG图案,其中所述接触件图案为所述有源区图案内的每一个有源区提供一个接触件。

8.一种测试元件组TEG图案,包括:

阱拾取区域,其包括多个岛型二极管TEG;

金属带区域,其电连接至所述多个岛型二极管TEG的接触件;

第一金属焊盘,其为所述金属带区域施加电势;以及

第二金属焊盘,其被配置为用于检测通过所述第一金属焊盘施加电势而导致的来自所述阱拾取区域的漏电流。

9.根据权利要求8所述的TEG图案,其中每个岛型二极管TEG包括:

器件隔离层图案,其在相邻的有源区之间具有预定间隙;

位于所述器件隔离层图案中的有源区图案;以及

位于所述有源区图案中的接触件图案。

10.根据权利要求9所述的TEG图案,还包括:具有大于最小设计规则值的尺寸的一个或多个第二器件隔离层图案和一个或多个第二接触件图案。

11.根据权利要求10所述的TEG图案,其中所述器件隔离层图案和所述接触件图案具有等于最小设计规则的数值的尺寸。

12.根据权利要求9所述的TEG图案,其被配置为根据所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸差值监控漏电流。

13.根据权利要求12所述的TEG图案,其中所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸差值为200nm或更小。

14.根据权利要求9所述的TEG图案,其中所述接触件图案为所述有源区图案内的每一个有源区提供一个接触件。

15.一种半导体器件的测试方法,包括以下步骤:

从第一金属焊盘处,对与多个岛型二极管测试元件组TEG电连接的金属带区域施加电势;以及

检测由所述第一金属焊盘施加电势而导致的从所述多个岛型二极管TEG的阱拾取区域到第二金属焊盘的漏电流。

16.根据权利要求15所述的方法,其中所述岛型二极管TEG包括:

器件隔离层图案,其在相邻的有源区之间具有预定间隙;

位于所述器件隔离层图案中的有源区图案;以及

位于所述有源区图案中的接触件图案。

17.根据权利要求15所述的方法,其中所述漏电流与所述有源区图案和所述接触件图案的尺寸差值相关。

18.根据权利要求17所述的方法,其中所述岛型二极管TEG还包括:具有大于最小设计规则值的一个或多个尺寸的一个或多个第二器件隔离层图案和一个或多个第二接触件图案。

19.根据权利要求17所述的方法,其中所述器件隔离层图案和所述接触件图案具有等于最小设计规则值的一个或多个尺寸。

20.根据权利要求16所述的方法,其中所述接触件图案为所述有源区图案内的每一个有源区提供一个接触件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东部高科股份有限公司,未经东部高科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710148571.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top