[发明专利]用于分析测试元件上样品的方法以及分析系统

权利要求书

1.一种用于对包括测试元件容器(13)及分析单元(10)的分析系统(9)中的测试元件(1)上的样品进行分析的方法，包括监控所述测试元件(1)的分析区域(2)是否在所述测试元件容器(13)中相对于所述分析单元(10)被定位在分析位置，所述监控包括以下步骤：

利用来自至少一个光源(11，17)的光照射所述分析区域(2)，

通过检测器(12)对在所述分析区域(2)处被散射或反射的光进行检测以获得检测信号，并且

通过评估单元对所述检测信号进行评估，

其特征在于，通过具有阻光区域(16)的分界元件(15)来对布置在所述测试元件(1)与所述检测器(12)之间的透光区域(14)进行分界，所述分界元件(15)相对于所述光源(11，17)以及所述检测器(12)定位以使得在所述测试元件容器(13)中在Z方向上被布置在错误位置的所述测试元件(1)分析区域(22)处散射或反射的光基本上撞击在所述阻光区域(16)上而不能到达所述检测器(12)，并且通过将所述检测信号与至少一个预定限制值进行比较以在未达到所述限制值时辨识出在Z方向上的错误位置。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：

在所述测试元件(1)的所述分析区域(2)在Z方向上的错误位置的情况下用于所述检测信号的限制值被预先确定，其与在所述测试元件(1)的所述分析区域(2)处散射或漫反射的光的相对反射率对应。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于对在所述测试元件容器(13)中定位在所述分析位置中的所述测试元件(1)上的样品进行分析包括以下步骤：

利用来自至少一个光源(11，17，18)的光照射所述分析区域(2)，

通过检测器(12)对在所述分析区域(2)处被散射或反射的光进行检测以获得检测信号，并且

通过评估单元对检测信号进行评估以获得分析结果。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于同一检测器(12)被用于监控所述测试元件(1)的所述分析区域(2)是否被定位在所述分析位置中，并被用于分析所述样品。

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于对样品进行分析包括以下步骤：

a)监控所述测试元件(1)的所述分析区域(2)是否在所述测试元件容器(13)中被定位在所述分析位置中，

b)使所述样品与所述分析区域(2)接触以获取在所述分析区域(2)中的测光可检测改变，

c)激励所述分析单元(10)的第一分析光源(18)，以照射所述分析区域(2)的第一区(4)，并且检测由所述分析区域(2)散射或反射的光以获取第一分析信号，

d)激励所述分析单元(10)的第二分析光源(18)，以照射所述分析区域(2)的第二区(5)，所述第二区相对于所述第一区(4)偏移布置，并且检测由所述分析区域(2)散射或反射的光以获取第二分析信号，

e)通过评估单元将所述第一分析信号与所述第二分析信号进行比较，以获取比较结果，并且基于所述比较结果选择所述第一分析信号或所述第二分析信号，以通过评估所选择的所述第一分析信号或所述第二分析信号来确定包含在所述样品中的分析物浓度。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，包括以下步骤：

i)将样品涂抹在所述测试元件(1)的样品涂抹位置(8)，

ii)激励至少一个分析光源(18)，以照射所述分析区域(2)的第一部分区域(6)，并且通过检测器(12)来检测由所述分析区域(2)散射或反射的光以获取检测信号，

iii)激励监控光源(17)，以照射所述分析区域(2)的第二部分区域(7)，并且通过检测器(12)来检测由所述分析区域(2)散射或反射的光以获取第二检测信号，

iv)通过所述评估单元将利用所述第二检测信号减去第一检测信号确定的差值与预定第一差值进行比较，以在超过所述预定第一差值的情况下辨识出所述样品的剂量不足。