[发明专利]用于检查交替相移掩模的方法和系统有效
申请号: | 200710149182.9 | 申请日: | 2007-09-05 |
公开(公告)号: | CN101162363A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | C·K·马格;K·D·巴杰尔;M·S·希布斯 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 于静;李峥 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 检查 交替 相移 方法 系统 | ||
1.一种用于检查交替相移掩模的系统,包括:
光学扫描器,配置其以扫描所述交替相移掩模和产生光学图像数据;
数据库,配置其以存储偏倚以补偿使用所述光学扫描器的所述交替相移掩模的光学扫描响应的检查数据;以及
图像处理器,配置其以确定在所述交替相移掩模中是否存在缺陷,其中所述图像处理器通过比较产生的光学图像数据与偏倚的检查数据确定缺陷的存在,其中超过用户选择的阈值的所述产生的光学图像数据与所述偏倚的检查数据之间的变化表示所述交替相移掩模中的缺陷。
2.根据权利要求1的系统,其中所述偏倚的检查数据基于源自在测试交替相移掩模的扫描期间从所述光学扫描器获得的光学成像数据的数据。
3.根据权利要求2的系统,其中所述偏倚的检查数据基于通过所述光学扫描器观察的相移的光学成像数据与从设计数据产生的参考光学图像数据的光学扫描响应中的差异。
4.根据权利要求1的系统,其中所述光学扫描器利用与在制造期间用于曝光所述交替相移掩模的光的波长失配的光的波长。
5.根据权利要求4的系统,其中所述光学扫描器利用非光化波长的光。
6.根据权利要求1的系统,其中所述图像处理器利用管芯到数据库的检查方法。
7.根据权利要求1的系统,还包括用于控制所述图像处理器的操作的控制器。
8.一种用于检查交替相移掩模的方法,包括以下步骤:
使用光学扫描器扫描所述交替相移掩模;
从所述交替相移掩模的所述扫描产生光学图像数据;
取回偏倚以补偿使用所述光学扫描器的所述交替相移掩模的光学扫描响应的检查数据;以及
根据产生的光学图像数据和偏倚的检查数据确定在所述交替相移掩模中是否存在缺陷。
9.根据权利要求8的方法,其中缺陷的所述存在的所述确定包括比较所述产生的光学图像数据与所述偏倚的检查数据,其中超过用户选择的阈值的所述产生的光学图像数据与所述偏倚的检查数据之间的变化表示所述交替相移掩模中的缺陷。
10.根据权利要求8的方法,其中所述偏倚的检查数据基于源自在测试交替相移掩模的扫描期间从所述光学扫描器获得的相移的光学成像数据的数据。
11.根据权利要求10的方法,其中所述偏倚的检查数据基于通过所述光学扫描器观察的所述相移的光学成像数据与从设计数据产生的参考光学图像数据的光学扫描响应中的差异。
12.根据权利要求8的方法,其中所述扫描利用与在制造期间用于曝光所述交替相移掩模的光的波长失配的光的波长。
13.根据权利要求12的方法,其中所述扫描利用非光化波长的光。
14.根据权利要求8的方法,其中所述确定包括利用管芯到数据的库检查方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710149182.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:提供新鲜会话密钥
- 下一篇:从频率调制信号恢复二进制无直流码的方法和装置
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备