[发明专利]一种将TiO2光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法

权利要求书

1.一种将TiO₂光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法，采用微颗粒磁控溅射镀膜设备制备，其特征在于：首先以空心微珠颗粒材料作基底，以铁磁性金属Ni或Co为溅射靶材，通过向真空室内充入氩气并采用直流、射频或者脉冲溅射，将金属Ni或Co均匀包覆于空心微珠表面上；再以金属Ni或Co包覆过的空心微珠为基底材料，以金属Ti作为溅射靶材，向真空室内通入氩气，采用直流溅射使已经镀有金属薄膜的微珠表面上均匀包覆一层金属Ti；然后打开氧气控制阀，向真空室中通入氧气，在溅射金属Ti的同时使Ti与真空室内的氧气发生反应生成TiO₂，并沉积于被铁磁性金属Ni或Co包覆的空心微珠表面。

2.根据权利要求1所述的将TiO₂光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法，其特征在于沉积铁磁性金属薄膜具体工艺条件是：在真空室内的真空度达到1.0×10^-3～4.0×10^-3Pa时，向真空室内充入纯度为4N的氩气，设定真空室内的工作压力为0.3～5Pa，直流电源的电流为0.2～1.5A，溅射功率为50～600W，基底温度为室温，溅射时间为20～60分钟；沉积TiO₂薄膜的具体工艺条件是：在真空室内的真空度达到1.0×10^-3～4.0×10^-3Pa时，首先向真空室内充入高纯氩气，设定真空室内的工作压力为0.3～5Pa，直流电源的电流为0.2～1.5A，溅射功率为50～1000W，基底温度为150～400℃，溅射时间为10-30分钟，在微珠颗粒完全被金属钛膜包覆后，向真空室中通入氧气，并调整氩气和氧气的流量比例在3～5∶1之间，其它条件保持不变，溅射时间2～16小时。

3.根据权利要求1所述的将TiO₂光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法，其特征在于：铁磁性金属Ni、Co靶材为直径100mm、厚度不超过3mm、纯度99.9％；Ti溅射靶材为直径100mm、厚度5mm、纯度99.9％；靶材要求表面平整光洁、内部均匀致密且无夹杂和空隙。