[发明专利]基片组合设备和方法有效
申请号: | 200710151646.X | 申请日: | 2004-11-24 |
公开(公告)号: | CN101126856A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 许光虎;李在热;李宣必;崔浚泳;李荣钟 | 申请(专利权)人: | 爱德牌工程有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/13 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李丙林;吴贵明 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 设备 方法 | ||
1.一种基片组合设备,包括:
真空室,至少两个上基片和至少两个下基片可被插入到其中;
在真空室内部的顶部上提供的上基板,用于在其上安装至少两个上基片而没有重叠并且从其可分离地拆卸上基片;
在真空室内部的底部上提供的下基板,用于在其上安装至少两个下基片而没有重叠;
基片位置校正装置,用于校正在上或下基板上安装的上或下基片的位置以使上和下基片的位置相互一致;
真空装置,用于在真空室中形成真空状态;以及
组合装置,用于在相对的方向上将压力施加给上和下基片以使上和下基片被相互组合。
2.权利要求1的基片组合设备,进一步包括控制单元,用于:
驱动基片位置校正装置以使一个上基片的位置与对应的下基片的位置一致,并且控制上基板以使上基片下降到具有与该上基片一致的位置的下基片;
在真空室中还有其他基片的情况下,再次驱动基片位置校正装置以使接下来的上基片的位置与接下来的下基片的位置一致,并且控制上基板以使上基片下降到具有与该上基片一致的位置的下基片;并且
在真空室中的所有上和下基片彼此被预附着之后,驱动组合装置以使所有经预附着的上和下基片同时被相互组合。
3.权利要求2的基片组合设备,其中组合装置是压力恢复装置,用于通过把气体注入到真空室中将真空室中的压力增加得比由上和下基片形成的内部空间的高,由此组合上和下基片。
4.权利要求2的基片组合设备,其中组合装置是基片拆卸单元,其被提供在上基板上,用于控制上基板,使得上基片从上基板上被拆卸。
5.权利要求1或2的基片组合设备,进一步包括视觉装置,其被形成通过真空室的上表面的指定部分,用于可分离地观察在上和下基板上安装的每个上和下基片。
6.一种用于组合用于液晶面板的基片的方法,包括以下步骤:
(a)将基片插入到真空室中,并且将至少两个上基片和至少两个下基片分别安装在上和下基板上而没有重叠;
(b)在真空室中形成真空状态;
(c)使在上基板上安装的各个上基片由于重力而下降到对应的下基片并预附着上和下基片;以及
(d)将压力施加给所有经预附着的上和下基片以使经预附着的上和下基片被相互组合。
7.权利要求6的方法,其中在步骤(c)中,通过校正上和下基片的位置对一个上基片和对应下基片的位置的一致化,以及通过使上基片下降到对应的下基片对上和下基片的预附着,按照与在真空室中安装的上和下基片的数量的比例而被依次重复。
8.权利要求6的方法,其中在步骤(d)中,真空室中的压力被增加以使上和下基片通过经预附着的上和下基片的内部和外部之间的压力差而相互组合。
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