[发明专利]显示装置有效

专利信息
申请号: 200710152457.4 申请日: 2007-10-12
公开(公告)号: CN101174053A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 斋藤宪;安藤秀树;北村健一 申请(专利权)人: 新日铁化学株式会社
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/133;H05B33/00;G09F9/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其是将显示装置用电子材料积层于硬质透明基板而形成;硬质透明基板为使下述一般式(1)所示的硬化性树脂硬化而得到,而上述硬化性树脂为具有由以下述计算式(2)所计算的堆砌系数Kp为0.68至0.8的金属氧化物所构成的紧密构造部位(A)、与由上述Kp未达到0.68的有机物或有机物与有机金属氧化物所构成的疏松构造部位(B),同时,构造部位(A)/(B)的重量比为0.01至5.00,且具有至少一个不饱和键而平均分子量为800至60000,

-{(A)-(B)m}n-    (1)

(其中,m及n为1以上的整数)

Kp=An.Vw.p/Mw    (2)

(其中,An=阿伏伽德罗常数、Vw=范德华体积、p=密度、Mw=分子量、Vw=ΣVa、Va=4π/R3-Σ1/3πhi2(3Ra-hi)、hi=Ra-(Ra2+di2-Ri2)/2di、Ra=原子半径、Ri=键结原子半径、及di=原子间距离)。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,紧密构造部位(A)是具有去除下述一般式(I)的有机物部位的三维多面体构造的金属氧化物部位,疏松构造部位(B)是由一般式(I)的有机物部位与下述一般式(II)构成,

(RSiO3/2)w(MO2)x(RXSiO)y(XMO3/2)z        (I)

(R3R4R5SiO1/2)j(R6R7SiO)k{R6R7XSiO1/2}1  (II)

(其中,R为以(a)-R1-OCO-CR2=CH2、(b)-R1-CR2=CH2或者(c)-CH=CH2表示的不饱和基、烷基、环烷基、环烯基、苯基、氢原子、烷氧基、或烷基硅氧基,而式(1)中的多个R可互相不同,但至少1个是包含(a)、(b)、(c)的任一者;此外,R1表示亚烷基、亚烯基或亚苯基,R2表示氢或烷基,R3至R7为以(a)-R1-OCO-CR2=CH2、(b)-R1-CR2=CH2或者(c)-CH=CH2表示的不饱和基、烷基、环烷基、环烯基、苯基、氢原子、烷氧基、或烷基硅氧基,M为硅、锗、钛、或锆的金属原子,X为卤素原子、或烷氧基,w为4以上的整数,x、y及z为满足w+x+y+z≥8的整数;此外,j、k、及1分别表示0以上的整数)。

3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,一般式(1)中的(A)所示的构造单位是由选自RSiX3、MX4或其混合物(其中,R、M及X与一般式(I)相同)的水解缩合物的一般式(I)

所示的构造单位中的三维多面体构造骨架的金属氧化物部位所构成。

4.根据权利要求2所述的显示装置,其中,一般式(1)中的(B)所示的构造单位是由R3R4R5SiX、R6R7SiX2或其混合物(其中,R3至R7及X与一般式(II)相同)的水解缩合物所制造的一般式(II)所示的金属氧化物的链状单位、及与一般式(1)所示的构造中所含有的金属原子键结的有机基所构成。

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