[发明专利]基板清洗装置和使用该装置的基板清洗方法无效
申请号: | 200710154297.7 | 申请日: | 2007-09-17 |
公开(公告)号: | CN101143362A | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | 上夷真二 | 申请(专利权)人: | NEC液晶技术株式会社 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B1/04;B08B7/04;B08B3/04;A46B9/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 钟强;谷惠敏 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 使用 方法 | ||
1.一个基板清洗设备,包括:
涂刷清洗单元,其通过使滚刷接触基板表面来清洗基板,滚刷包括刷毛,并且滚刷直径、刷毛硬度、和刷毛密度的至少其中之一从滚刷的末端部分到它的中心部分变大;以及
传送单元;其传送所述基板。
2.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其中
滚刷的直径以弧线方式改变。
3.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其中
滚刷的直径线性地改变。
4.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其中
滚刷的直径以步进式方式改变。
5.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其中
涂刷清洗单元包括上下移动滚刷的涂刷移动部件。
6.根据权利要求1的基板清洗设备进一步包括:
喷射清洗单元,其把液体喷射到基板的表面。
7.根据权利要求1所述的基板清洗设备,其中
传送单元包括保持基板的边缘的第一滚筒,以及传送基板的第二滚筒。
8.一种使用基板清洗设备的基板清洗方法,所述基板清洗设备包括通过使滚刷接触基板表面来清洗基板的涂刷清洗单元,以及传送所述基板的传送单元,滚刷包括刷毛,并且滚刷直径、刷毛硬度、和刷毛密度的至少其中之一从滚刷的末端部分到它的中心部分变大,所述基板清洗方法包括:
以预定压力,将旋转的滚刷压向基板;以及
把预定的液体喷射到由保持装置保持的基板。
9.在基板清洗设备中提供的滚刷,基板清洗设备通过使滚刷接触基板表面来清洗基板,所述滚刷包括:
刷毛,滚刷直径、刷毛硬度和刷毛密度的至少其中之一从滚刷的末端部分到它的中心部分变大。
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