[发明专利]处理气体供给机构、供给方法及气体处理装置有效

专利信息
申请号: 200710154446.X 申请日: 2007-09-12
公开(公告)号: CN101159228A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 佐藤亮;齐藤均 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/67;C23F4/00;C23C16/455;C30B25/14;H05H1/00;H01J37/32;F17D1/04
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 气体 供给 机构 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种处理气体供给机构,其特征在于,

其按照对收容在处理容器内的被处理体实施规定处理的方式向所述处理容器内供给处理气体,该处理气体供给机构包括:

用于向所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给源;

用于暂时贮存来自所述处理气体供给源的处理气体的处理气体罐;和

将来自所述处理气体供给源的处理气体供给所述处理气体罐,并将所述处理气体罐内的处理气体供给所述处理容器内的处理气体流通部件,

处理气体从所述处理气体供给源被暂时贮存在所述处理气体罐中,并从所述处理气体罐向所述处理容器内供给。

2.一种气体处理装置,其特征在于,包括:

收容被处理体的处理容器;

向所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给机构;以及

对所述处理容器内进行排气的排气单元,并且,

在将被处理体收容在所述处理容器内的状态下,利用所述排气单元进行排气,同时利用所述处理气体供给机构供给处理气体,对被处理体实施规定处理,

所述处理气体供给机构包括:

用于向所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给源;

用于暂时贮存来自所述处理气体供给源的处理气体的处理气体罐;和

将来自所述处理气体供给源的处理气体供给所述处理气体罐,并将所述处理气体罐内的处理气体供给所述处理容器内的处理气体流通部件,

处理气体从所述处理气体供给源被暂时贮存在所述处理气体罐中,并从所述处理气体罐向所述处理容器内供给。

3.根据权利要求2所述的气体处理装置,其特征在于,

所述处理气体流通部件包括:与所述处理气体供给源以及所述处理容器连接着的第一处理气体流路;以及从所述第一处理气体流路分支并与所述处理气体罐连接着的第二处理气体流路,

所述处理气体供给机构也从所述处理气体供给源向所述处理容器内供给处理气体。

4.根据权利要求3所述的气体处理装置,其特征在于,

设置有多个所述处理气体罐,并且,与所述处理气体罐的数量对应而设置有多个所述第二处理气体流路,

所述各第二处理气体流路分别具有用于将处理气体送入所述处理气体罐的送入流路;以及用于将处理气体从所述处理气体罐送出的送出流路。

5.根据权利要求4所述的气体处理装置,其特征在于,

包括控制所述处理气体供给机构的控制部,

所述控制部进行如下控制:使处理气体从所述多个处理气体罐的一部分通过所述送出流路向所述处理容器内供给,同时使处理气体从所述处理气体供给源通过所述送入流路贮存在所述多个处理气体罐的剩余的一部分或全部中。

6.根据权利要求3所述的气体处理装置,其特征在于,

所述第二处理气体流路分别具有用于将处理气体送入所述处理气体罐的送入流路;以及用于将处理气体从所述处理气体罐送出的送出流路,

设置有多个所述处理气体供给源以供给不同的多种处理气体,并且,所述第一处理气体流路具有与所述处理气体供给源的数量相对应地分支成多个并与所述各处理气体供给源连接着的供给源连接流路,

所述第二处理气体流路的所述送入流路是从所述第一处理气体流路的所述各供给源连接流路分支的。

7.根据权利要求6所述的气体处理装置,其特征在于,

包括控制所述处理气体供给机构的控制部,

所述控制部进行如下控制:在使由规定种类及比例组成的处理气体从所述处理气体罐通过所述送出流路向所述处理容器内供给之后,使由所述规定种类及比例组成的处理气体从所述多个处理气体供给源的一部分或全部通过所述第一处理气体流路向所述处理容器内供给,与此同时,使由与所述规定种类及比率不同的种类以及/或者比例组成的处理气体,从所述多个处理气体供给源的一部分或者全部通过所述送入流路贮存在所述处理气体罐中。

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